中古 LEYBOLD APS 1104 #9192878 を販売中

LEYBOLD APS 1104 Photoresist Processing Equipmentは、フォトリソグラフィープロセスで使用される多機能で完全に自動化されたシステムです。これは、最適な結果を持つフォトレジストの様々なタイプを処理し、開発するために特別に設計されています。APS 1104ユニットは、温度、湿度、露点、界面活性剤の濃度、露光時間など、最終製品に影響を与えるすべてのパラメータを完全に制御します。LEYBOLD APS 1104は、プロセスチャンバー、プロセスパラメータを設定および制御するための制御ユニット、および開発タンクで構成されています。この機械には、溶剤用と界面活性剤用の2つの独立したソレノイドバルブが装備されており、2つの液体の異なる比率と濃度をいつでも使用できます。ロードポートには高精度のチャンバ温度センサが内蔵されており、プロセスチャンバー内の温度を正確に制御できます。これは、フォトレジストの特性が温度変化により著しく変化することがあるため、一貫した再現性のある結果を得るためには温度制御が不可欠です。チャンバーには、溶剤と界面活性剤の供給ツールも含まれています。このアセットは、溶剤と界面活性剤を可変的かつ正確に分注するように設計されており、ユーザーは特定のニーズに応じてミックスを制御することができます。積載後、チャンバーは避難し、真空は調整可能な圧力制御ポンプによって生成されます。チャンバー内の真空を制御することで、混合溶媒と界面活性剤をチャンバー全体に均一に配分することができます。ユーザーは、最大99。99秒の露光時間と露光波長を設定できます。露光波長は、使用されている特定のフォトレジストと所望の結果に応じて選択することができます。このモデルには、温度調節可能なホットプレートも含まれています。これは熱を生成するために使用することができ、フォトレジストの硬化プロセスを加速するのに役立ちます。ホットプレートはまた、開発中のホットスポットを防ぐ強制空冷装置を備えています。最後に、APS 1104には、磁気結合スターラーを備えた開発タンクが含まれています。これにより、フォトレジストの均質で一貫した開発が保証されます。開発後、フォトレジストはプログラム可能で調整可能なメディアノズルを使用して洗浄され乾燥されます。これは、フォトレジストが過熱または過剰乾燥せずに乾燥することを保証するのに役立ちます。LEYBOLD APS 1104はフォトリソグラフィ製品の大規模な生産に最適です。