中古 LEYBOLD APS 1104 #9092775 を販売中

LEYBOLD APS 1104
製造業者
LEYBOLD
モデル
APS 1104
ID: 9092775
ヴィンテージ: 2009
Evaporator Mechanical pump Quartz head monitoring Diffusion pump Root pump Dual E-beam guns MFC's Chambers Coating materials: TA2O5 and SIO2 Arch fixture Pumping system: Mechanical pump set: (2) Stages: Single stage / Dual stage Rotary Roots RUVAC WS501 11732 TRIVAC D65B Diffusion pump ((7) Screw connections) OMS 3000 Optical monitoring system Poly cold unit Film thickness monitor: XTC-3 Crystal film thickness monitor Single quartz crystal APS System: APS Plasma source Standard leycom APS K9 APS Control unit TA150 APS Power supply unit TP250 APS Heater unit EB-Gun system: (2) EB Guns ESV14 EB Gun HV 10.3 Shielding: Cooling water division LEYBOLD APS 1104 Manual Voltage: 380 V 2009 vintage.
LEYBOLD APS 1104は、ユーザーにリソグラフィープロセスの完全で正確なワークフローを提供するために特別に設計されたフォトレジスト機器です。システムは、ユーザーが任意の任意の設定で露光を正確にモデル化し、リソグラフィープロセスを開発することができるツールのセットで構成されています。中核となるAPS 1104は、ウェーハサーフェスを準備するために4段階のプロセスを使用します。まず、ウエハは紫外線(UV)と深紫外線(DUV)の両方を発生させることができる光源にさらされます。この露出は、フォトレジストを硬化させ、感度を高めます。第二に、フォトレジストは、基板を露出するために開発者浴槽で開発されています。第三に、ウェハは露出パターンを定義するためにウェットエッチング処理を受けます。最後に、ウェーハは後処理エッチングを受け、その間に露出パターンは所望の3Dプロファイルに変換されます。また、10nm程度の極域非線形を検出できる先進的な光学イメージングマシンなど、多くの機能を備えています。このツールは、フォトレジストの汚染を低減し、視野全体を正確に露出するために光の焦点を調整するために運動アセットと一緒に動作します。LEYBOLD APS 1104は、1時間あたり最大1000個のウェーハを処理することも可能で、開発時間は1パターンにつき最大20分です。その低温動作は、そのデジタル温度コントローラと熱電対と相まって、フォトレジスト層がプロセス中に損傷しないことを保証します。APS 1104は高精度のステッピングコントローラと圧電トランスデューサによって一部で有効にされています。また、直感的なユーザーインターフェイスとさまざまなデバッグツールを備えているため、フォトレジストプロセスを素早く簡単にモデリングできます。全体として、LEYBOLD APS 1104はフォトレジスト機器に最適です。高精度で効率的なため、リソグラフィープロセスの開発に最適です。
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