中古 LAURELL WS-650HZB-23NPP/UD3 #9397755 を販売中

LAURELL WS-650HZB-23NPP/UD3は、化学機械研磨（CMP）プロセスにおける重要な生産アプリケーション向けに設計された高性能フォトレジスト装置です。このシステムは、プロセスの一貫性と歩留まりを改善しながら、プロセス開発時間を短縮するように設計されています。加熱された基板テーブルと同様に、調整可能な真空で湿式/乾式ステージを使用して、処理中に均一な温度を維持します。WS-650HZB-23NPP/UD3は、独自のフォトレジスト技術と機械的プラットフォームを使用して、研磨結果の最高の再現性と精度を実現しています。内部チャンバーは、文書化されたレベルに加圧され、動作中の粒子生成が低い。それに基質の表面の最も良質のフォトレジストの結果を保障する調節可能な真空および拡張された緩衝解決が、あります。また、WS-650HZB-23NPP/UD3には信頼性が高く、正確に調整されたフォトレジストディスペンサーユニットがあり、各基板のレジスト材料送り速度、濃度、粘度を正確に制御できます。さらに、研磨基板をアンロードする前に最終的な洗浄、洗浄、乾燥プロセスを実行するスピン洗浄乾燥機を提供しています。WS-650HZB-23NPP/UD3フォトレジストツールは、直感的な画面、グラフィカルメニュー、簡易制御システムを備えたユーザーフレンドリーです。プロセスチャンバー内の温度プローブは、基板を監視し、常に温度に抵抗することができます。このプローブは、高いスループットレートでも最高の製品品質と一貫性を保証するために、正確な抵抗膜厚と温度を維持するように設計されています。フォトレジスト技術の応用範囲は、WS-650HZB-23NPP/UD3ユニットが提供する優れたハードウェア精度によって可能になります。高い再現性と精度で、幅広い基板や各種研磨技術に対応できます。このアセットは、高精度、高精度、一貫した結果を必要とするハイエンドCMPアプリケーションに最適です。