中古 KARL SUSS / MICROTEC RC 8 #9207171 を販売中

KARL SUSS/MICROTEC RC 8は、高解像度マイクロストラクチャーおよび集積回路の製造に使用するために特別に設計されたフォトレジスト機器です。このシステムは、紫外線（UV）にさらされる単一のレジスト層を使用して、電子ビームレジスト画像を作成します。このデバイスは、5 mの解像度で直径8インチまでのウェーハ上に mのサブフィーチャーサイズの高解像度パターンを生成 ことができます。MICROTEC RC 8ユニットは、非接触露光モードと接触露光モードの両方を可能にするように設計されています。非接触モードでは、真空チャックを使用して抵抗露出中にサンプルを所定の位置に保持します。次に、電子ビームを使用して、ロードされたパターンに従って適切なジオメトリをレジスト表面にプログラミングします。コンタクトモードでは、ウェーハ表面を露出するためにステンシル状のレジストマスクを使用します。精度の面では、この機械は5 μ mの特徴サイズの決断があり、10 μ mの露出ライン長さまでパターンを露出できます。このツールには、最高温度250°Cのホットプレートも含まれています。これにより、レジスト層から基材にパターンを転送するための最適化されたプロセスが可能になります。さらに、アセットは空気、窒素、または真空でも操作できます。これにより、チップ生産者は製造プロセス中の汚染物質の発生を減らすことができます。KARL SUSS RC 8モデルは、ユーザーフレンドリーで安全に使用できる複数の安全機能を備えています。紫外線からユーザーを保護する保護ハウジング、紫外線への偶然の露出を防ぐためのインターロック、画像が露出したときのパターンのブロック領域を決定するのに役立つアルファ源を備えています。また、各種レジスト材での使用が可能で、バッチ間の洗浄も容易です。全体として、RC 8システムは、最大5 µmの解像度でウェーハ上の高解像度パターンを生成することができます。また、複数の安全機能を備えており、使いやすいです。このユニットは、幅広い機能を備えており、高解像度マイクロストラクチャーおよび集積回路の製造に最適です。