中古 INTELLIGENT MICRO PATTERNING SF-100 #9390791 を販売中
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ID: 9390791
ヴィンテージ: 2009
Maskless lithography system
Maximum size of substrates: 200 mm x 200 mm
Wavelength: 365-578 nm
Mercury lamp: 200 W (Resource of work 1000 hours)
Minimum element size: Up to 1 µm
Grayscale exposure: 768 Levels
Vision system: CCD Camera
Control: Standard PC, User interface
Data format: BMP, DXF
Automatic focusing
Semi-automatic combination
Optics: Standard optics, high resolution optics
Backing plate
XY-Axis travel:
Accuracy: ±200 nm
Repeatability: ±50 nm
Z-Axis travel:
Total travel: 25 mm
Accuracy: ±200 nm
Repeatability: ±75 nm
Theta movement:
Rotation: 360°
Accuracy: ±5 arc sec
Repeatability: ±2 arc sec
Vibration protection: Anti-vibration base
Vacuum: -0.6 bar
Pneumatic supply: 5-6 bar, 0.5 m³/h
Power supply: 200 V, 50-60 Hz, 7 kW (Maximum)
2009 vintage.
インテリジェントマイクロパターニングSF-100インテリジェントマイクロパターニング装置は、半導体デバイス製造やマイクロファブリケーションなどのアプリケーションで使用される最先端のフォトレジストシステムです。高度なマシンビジョン技術を駆使し、製品のマイクロパターニングに高い精度と精度を提供します。SF-100ユニットは、優れた特徴分解能と均一性を達成するために、ユニークな二重露光技術と明確に定義された光源を使用しています。インテリジェントマイクロパターニングSF-100は、高精度の光学位置決めシステムを備えており、フォトレジスト層をデバイス基板と正確に整合させることができます。また、フォトレジストが適切に露出されていることを保証する自動露出と開発モジュールを備えています。このモジュールはまた、高解像度および中解像度のパターンをサポートすることができ、不適切な露出による可能性のある欠陥を最小限に抑えることができます。また、SF-100には高度なプロセス制御システムがあり、フォトレジスト層を均一にして適切に開発することができます。これは、高精度なパターンを実現するために不可欠です。このマシンには、異なる波長のレーザーを使用してフォトレジストに直接パターンを書き込むレーザーライトヘッドも含まれています。このツールには、ユーザーが決定できる高解像度の光学イメージング資産が装備されています。それは5 umより小さい特徴の良いパターンを容易にするのに使用することができます。このモデルは、トレンチ、溝、ピットなどの細部を含むリソグラフィー作業に使用できます。インテリジェントマイクロパターニングSF-100インテリジェントマイクロパターニング装置は、印刷と開発の面で最大限の柔軟性を提供します。非常に複雑なジョブに対応するために、バッチ操作と連続モード操作の両方を備えています。また、さまざまなデバイス用途に適した多用性のあるコーティングおよびフォトレジスト材料もあります。SF-100システムは、直感的なグラフィカルユーザーインターフェイスで簡単に操作できます。これにより、ユーザーはユニットパラメータを迅速かつ正確に調整できます。また、フォトレジストとデバイス基板をプロセス全体にわたって手付かずの状態に保つための複数の安全システムも含まれています。インテリジェントマイクロパターニングSF-100インテリジェントマイクロパターニングマシンは、高品質で超精密なマイクロパターンを製造するための貴重なツールです。半導体デバイスの製造からマイクロマシニングまで、幅広い用途に適したタイトなフィーチャーパターンを生成することができます。その信頼性の高い動作と正確な結果により、SF-100は最高のデバイス精度と再現性を達成するのに最適です。
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