中古 HEADWAY PWM 32 #170907 を販売中

HEADWAY PWM 32は、HEADWAY Technologiesが製造するフォトレジスト機器です。光プロセスと化学プロセスを組み合わせて、複雑な構造や形状を精密に再現できるフォトマスクを作成します。このユニットは、すべてのレジスト関連のリソグラフィ用途に高い精度、柔軟性、および費用対効果を備えたフォトレジストマシンを提供するように設計されています。HEADWAY PWM32ツールは、高度な光と化学プロセスを利用して、フォトマスク内の特徴を正確に再現します。紫外線は、フォトレジストを含む反転光学セルに石英窓を通します。その後、正確なレベルのエネルギーがフォトレジストに適用され、化学反応が起こります。この反応により、基板表面にポリメチルメタクリレート（PMMA）の薄膜が形成されます。PMMAのこの薄いコーティングが設置されると、フォトレジストは光にさらされてポリメチルメタクリレートをエッチングすることができます。これにより、フォトマスクの機能を正確に分解することができます。この資産は、最高の精度、柔軟性、および費用対効果でフォトレジストの広い領域を処理するために設計されています。それはフォトマスクまたは基質のさまざまなサイズを収容するために調節可能である設計を操作すること容易な軽量を使用します。このモデルには、大量の処理能力とプロセス能力も含まれています。これにより、化学プロセスを大幅に制御するだけでなく、リソースへの容易なアクセスを可能にするユーザーフレンドリーな環境を可能にします。PWM 32フォトレジスト装置の化学処理能力はユニークで、優れた品質を提供します。0。5マイクロメートルまでの細かいディテールが可能なため、非常に小さなスケールでも高解像度で機能を再現できます。これにより、エレクトロニクスや半導体製造などの精度を必要とする業界での用途に適しています。さらに、システムは信頼性が高く費用対効果が高く、短時間で一貫した品質を提供します。全体的PWM32、フォトレジストユニットは、信頼性が高く、正確で費用対効果の高いフォトマスキングマシンであり、多数のリソグラフィ用途に適しています。光プロセスと化学プロセスの組み合わせにより、複雑な構造や形状を精密な精度と信頼性で再現することができます。さらに、そのユーザーフレンドリーな設計により、化学プロセスを大幅に制御し、資源に簡単にアクセスできるため、多くの業界にとって魅力的な選択肢となります。