中古 HEADWAY CB 15 #9392727 を販売中

HEADWAY CB 15フォトレジスト装置は、固体基板上に高品質のフォトレジスト層を生成するように設計された高度で堅牢な化学蒸着（CVD）システムです。時間、労力、コストを最小限に抑えて映画の成長を可能にします。このユニットは、独自のプロセス制御機能、自動化されたエンドオブラン診断、およびカスタムフィットコンポーネントを使用して、優れたフォトレジスト層の接着強度と均一性を実現します。この機械は、自動化されたプロセスチャンバー、真空工具、空気供給された加熱チャンバ、および制御および監視ソフトウェアで構成されています。CVDプロセスは、基板表面にフォトレジスト材料の薄膜を堆積させることを含みます。これに続いて、一連の腐食性の洗浄または仕上げステップと保護層またはフォトマスク層の適用が続きます。CB 15アセットでは、プロセスチャンバにフォトレジスト前駆体を含む大気蒸気を供給することによってプロセスが開始されます。これにより、空気中に浮遊しているリアクタント分子の気化ガスが生成されます。このデバイスは、1回の避難サイクルと最小限の回復時間で高効率です。圧力可変マニホールドと内蔵ヒーターにより、ユーザーはプロセスチャンバー内の圧力と温度範囲を正確に制御できます。これは、基板上のフォトレジスト層の均一な沈着と信頼性の高い接着特性を確保するのに役立ちます。モデルの実行終了診断では、泡やボイドなどのプロセスの不要な副作用が自動的に検出されます。HEADWAY CB 15装置は、従来の有機フォトレジスト（OPR）からフォトレジストポリマー、無機材料まで、さまざまなフォトレジスト材料で使用できます。非常に薄いフォトレジスト層でも正確かつ均一に堆積することができるため、正確な層の厚さを必要とするハイエンド用途に最適です。CB 15は、石英、ケイ素、ヒ素ガリウム、窒化ケイ素、ゲルマニウムなどの材料を処理することができ、標準的なフォトリソグラフィックおよびウェットエッチング処理と互換性があります。システムはリモートで操作でき、正確で効率的な操作を保証するために包括的なユーザーマニュアルでサポートされています。自動化されたエンドオブラン診断とプロセスパラメータのリアルタイムロギングにより、さらに操作が容易になります。最後に、このデバイスには、ハードウェアに障害が発生した場合に備えて、一連のカスタムフィットアクセサリと交換ユニットが付属しています。HEADWAY CB 15フォトレジストユニットは、ソリッドステート基板上のフォトレジスト層の精密蒸着に最適です。