中古 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9217485 を販売中

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON MERCURY MPは、半導体製造用に設計された自動フォトレジスト装置です。このシステムは、感光材料の強烈な紫外線硬化の最新技術を使用して、基板の表面全体にエッチング材料の完成層を作成します。このユニットは、高性能マイクロエレクトロニクス、ナノテクノロジー、およびオプトエレクトロニクスの製造に適しています。FSI Mercury MPマシンは、特許取得済みの高解像度画像投影法を使用して、望ましい感光材料パターンを介して紫外線を配信します。これはマイクロリソグラフィと組み合わされ、画像投影のサイクルごとにナノサイズの特徴を作り出します。投影された画像を基板に移し、高強度の紫外線で硬化させます。このプロセスにより、フォトリソグラフィとレーザーパターニングの正確な組み合わせが、マイクロメートルスケール機能とナノスケール機能に使用できます。マニュアルプロセスやフォトリソグラフィーだけよりもはるかに優れた精度と再現性を可能にします。このツールには、マスクと基板上を通過するときに紫外線照射を正確に測定するために使用されるステッパー/スキャナーが含まれています。ステッパー/スキャナは、複数のゾーン温度制御セラミックヒーターと密接に統合されています。これにより、単一のシームレスな操作で、異なる材料の正確で再現性のある正確な硬化が可能になります。その結果、高解像度の画像投影と温度と湿度の正確な制御を組み合わせることで、生産サイクル時間を大幅に向上させ、非常に高い製品歩留まりを維持します。TEL MERCURY MPアセットは、フォトレジスト加工機能に加え、超微細リソグラフィ用途に高真空ツールチャンバーを使用することができます。このチャンバーには、感光材料の急速な硬化のために-25°Cの温度に達することができる高真空クライオスタットが装備されています。これにより、マイクロエレクトロニクスおよびナノエレクトロニクス製品の製造において可能な限り最高の分解能を得ることができます。水銀MPモデルは、大型基板の加工に対応するように設計されています。最大3つの基板を同時に処理することができ、装置は部品間でプロセスと基板情報を自動的に転送する手段を提供します。これにより、柔軟性が向上し、生産サイクル時間が短縮されます。TOKYO ELECTRON MPフォトレジストシステムは、先進的なマイクロエレクトロニクスとオプトエレクトロニクスの製造に最適なツールです。付属のハードウェアとソフトウェアは、高度な技術、精度、再現性を提供し、生産性の高い製造プロセスを可能にします。