中古 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9161972 を販売中
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販売された
ID: 9161972
ヴィンテージ: 1996
Spray processor, 8"
Software: 11
FSI Standard exhaust config: Yes
Dual exhaust: No
Turntable style (PFA vs. Ti vs. SS): PFA 918600-003
Motor and motor speed controller: Upgrade 232608-003
Booster pump: Yes, not dual
Helios: Yes
Ti T/C's: No
Canister remote length: 25'
Vertical lift kit length: 20'
Vertical lift kit: Some canisters
Center SP etch probe: No
SBSP: Yes
SBSP Etch probe: Yes
I/R Htr(P)ost Man / (C)hem spec: No
I/R Heater split manifold: No
I/R Heater bypass valves: No
CPU 286: No
CPU 486 25 mH: No
CPU 486 80 mH: No
CPU 586 Yes: 922081-001
HF Last: Yes
LPP w / Flowmeter: Yes
HF Last rinse bypass: Yes
DI MIX: Yes
H2SO4(Analog vs. NT): Yes
H2O2 (Analog vs. NT): NT 30-300, 915191-102
HF400: Yes
HF402 (Analog vs. NT): NT 15-150, 915191-101
HCL (Analog vs. NT): NT 15-150, 915191-101
NH4OH (Analog vs. NT): NT 15-150, 915191-101
Can position 1: Sulphuric (H2SO4)
Can position 2: Hydrofluoric (10:1)
Can position 3: Hydrofluoric (10:1)
Can position 4: Ammonium hydroxide (NH4OH)
Can position 5: Hydrochloric (HCl)
Can position 6: Hydrogen peroxide (H2O2)
HF / DI On-line blending: Yes
Manifold type: PFA
DI Flow switch / monitor: No
N2 Flow monitor: No
Recirculation: No
Chemical heater (Stand alone): No
N2 Heater: No
UPS: No
Component rinse: No
SECS Comm: Yes
Rear access: Yes
Chemical sampling: No
Photohelic monitor: Yes
MHS: No
Dual canister rotary board: No
Autofill: HF- SULFURIC
Remote touchscreen: No
Dual touchscreen: No
Direct feed: No
Process application #1: RCA Clean
Process application #2: B Clean
Process application #3: SPM Only
Process application #4: HF Last
Pressure / Flow settings
Bowl exhaust - IWC: 0.8 +/- 0.2
Bowl exhaust - FPM: N/A
1996 vintage.
FSI MERCURY MPは、FSI International、 Inc。が開発したフォトレジスト機器です。半導体エッチングプロセスで使用され、半導体ウェーハが紫外線にさらされ、露出した材料の特性が変化し、エッチングが容易になります。MERCURY MPシステムは、真空フォトレジストユニットを使用し、基板の精密エッチングを可能にします。この機械は、半導体ウェーハのファインラインエッチングに高性能で信頼性の高い環境を提供するように設計されています。真空フォトレジストツールは、照射アセットと照射チャンバーを使用して、紫外線を均一に照射します。照射チャンバーでは、高エネルギーのUV光をウェーハに投影してフォトレジスト素材を光にさらします。露出はエッチングの深さを制御し、材料のアンダーカットまたは過剰エッチングの可能性を排除します。このモデルは、正確な制御と精度を確保するのに役立つさまざまな機能を備えています。この装置は、精密なイメージングオプティクスと堅牢な高速赤外線レーザーを使用してウェーハに光を照射し、非常に微細な解像度を実現します。また、高精度なマスキング・イメージング・システムと高効率光学投影ユニット(OPSM)を組み合わせて、均一な露光を実現しています。また、レーザーは出力放射線を素早く調整することができ、露光時間を正確に制御することができます。FSI MERCURY MPマシンは、ディープエッチングや超微細パターニングなど、幅広いフォトレジストプロセスに適しています。また、高度なプログラマブルなユーザーインターフェイスを備えており、ユーザーはパラメーターを素早く簡単に設定し、エッチング処理をリアルタイムで表示できます。Mercury MPツールは、半導体業界の精密エッチングに適した強力で精密なフォトレジスト資産です。高密度の集積回路や他のマイクロエレクトロニクスデバイスの製造に最適です。このモデルは、正確なイメージングオプティクスと堅牢で高速なレーザー、プログラマブルなユーザーインターフェイスを備えた信頼性の高い高性能な環境を提供し、迅速かつ簡単なパラメーター設定を可能にします。
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