中古 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9102507 を販売中

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ID: 9102507
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 1992
Spray processor, 6" Upgradeable to 8" Process: Preclean Chemicals: H2SO4, H2O2, NH4OH, HCl, HF, DI-H2O, N2 Software Rev.: 11.000 220V, 20A, 1 phase, 50/60Hz 1992 vintage.
FSI MERCURY MPは、半導体メーカーが集積回路の製造に使用する主要なフォトレジスト機器です。フォトレジスト(Photoresist)は、半導体基板に適用される不透明な物質で、基板に入るイオンやその他の粒子の量を防止または削減する保護コーティングとして機能します。フォトレジストに紫外線を照射すると、フォトレジストに含まれる分子に化学変化が起こり、不安定で基板から簡単に取り除かれます。このプロセスはフォトリソグラフィとして知られており、集積回路の製造に使用されています。フォトリソグラフィーは、回路のパターンが半導体基板に転送される半導体製造プロセスの一歩です。このプロセスは、通常、紫外線への暴露に続いて、光に敏感な溶液を適用することを含みます。MERCURY MPは、フォトリソグラフィープロセスで使用するための高効率フォトレジストシステムです。このユニットには、1万時間以上の長寿命で高い紫外線パワーと高い紫外線露光領域を提供する強力な電気光学モジュールが含まれています。高度なステッピングコントロールモジュールは、高精度で高速な応答時間も提供します。FSI MERCURY MPフォトレジストマシンは、大きな特徴領域を持つ高精度パターンを生成し、高品質のICの製造において高い熱安定性を得るためのトラッピングおよびデトラップ機能を向上させます。MERCURY MPには、イメージングおよびエッチングプロセスの歩留まりを改善するための特殊なフォトレジスト製剤も含まれています。さらに、高度なステッピングコントロールモジュールにより、フォトレジストの正確なアライメントと位置決めが可能です。全体的に、FSI MERCURY MPは、熱安定性、正確なパターン、およびプロセス歩留まりの向上を提供する効率的なフォトレジストツールです。その高度な電気光学モジュールは、最高品質のICを確保するのに役立ちます。ステッパー制御モジュールはフォトリソグラフィープロセスの精度を高め、フォトレジスト製剤はイメージングとエッチングプロセスの改善に役立ちます。これらのすべての機能により、MERCURY MPは半導体メーカーにとって理想的なフォトレジスト資産となります。
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