中古 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Excalibur #293642294 を販売中

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Excalibur Photoresist装置は、フォトリソグラフィを用いたサブ100nm製造の課題に対応するために開発された、高性能な自動フォトリソグラフィーソリューションです。WLCSP、 Photonic WaveGuide、 SiGN PVセルパターニング、MEMSプロセスなど、さまざまな複雑なアプリケーションに適応し、高精度、高スループット、低コストの処理を実現するように設計されています。FSI Excaliburフォトレジストシステムは、FSIが開発した独自のリソグラフィ技術に基づいており、特許取得済みの複雑なパターン用のファインチューニングされたフォトレジストユニットです。モジュラープラットフォーム上に構築されたTEL Excaliburマシンは、高精度、信頼性、再現性を実現するように設計されています。このツールは、高出力光源（HPLS）を使用して、最大25〜100nmの精度で基板に光を集中させることができ、より迅速かつ正確な結果を得ることができます。光源は多波長に対応しており、異なる波長帯を切り替えることで最適なパターンを実現できます。また、素早く動くターゲットを検出・分析できる先進的なCCDカメラを採用し、粒子やボールを高精度に追跡することが可能です。これにより、最大20ナノメートルの分解能と精度を、1時間あたり最大200ウェーハの効率的なスループットで実現できます。TOKYO ELECTRONエクスカリバーフォトレジスト装置は、ウェーハから不要な粒子や汚れを除去するために特別に設計された高効率の洗浄ステーションを使用しています。このクリーニングプロセスは、フォトリソグラフィープロセスと最終的な望ましい製品の成功を確実にするために不可欠です。このシステムは汎用性の高いアプリケーション向けに設計されており、モジュラーアーキテクチャによりアップグレードと拡張が可能です。プロファイル最適化ツール、自動プリポスト最適化、アライメント機能、オーバーレイおよび残留フィデリティ解析ツール、パフォーマンスの最適化に役立つ欠陥検出アルゴリズムなど、さまざまな高度なソフトウェアツールと機能が付属しています。エクスカリバーフォトレジストユニットは、導電性高分子、ガラス、III-V化合物、セラミックスなどの幅広い材料の高精度フォトリソグラフィおよび高度な微細構造に使用されています。マスクレスリソグラフィにも使用でき、基板レベルでの汎用操作が可能です。高精度で再現性に優れ、幅広い基板・量産に対応可能です。