中古 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Antares #9399693 を販売中

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON ANTARESフォトレジスト装置は、半導体デバイスの製造に使用されるフォトリソグラフィープロセスのための革新的なソリューションです。半導体ウェーハにフォトレジスト層をパターン化する特許取得済みのデュアルレイヤー「象の皮膚」法を採用しています。上部レジスト層はフォトレジストに対してマスクとして機能し、下側のレジスト層は望ましいパターンと特徴を作成するためのさらなる治療を提供します。FSI Antaresフォトレジストユニットは、2つのレーザー光源を持つ商標登録されたEビーム技術を使用して、フォトレジスト層を焼くことなく望ましいパターンを達成します。2つのレーザー光源-1つの平行と1つの垂直-希望のパターンを形成するために、フォトレジスト層に穴とピークのパターンを生成します。TEL AntaresのユニークなEビームマシンは、穴をピークの上に正確に配置でき、パターンの出血や凹凸がないため、他のフォトレジストシステムよりもはるかに高いパターニング解像度を実現します。Eビーム技術に加えて、Antaresツールはフォトレジスト層の酸化を防ぐために高真空環境を利用しています。これは、強い光の露出による腐食を防ぎ、フォトレジストの結晶構造を保持するのに役立ちます。東京エレクトロンアセットは、フォトリソグラフィの一般的な問題である感光汚染にも耐性があります。パターンの品質を確保するために、モデルはフォトレジストの層を汚染する可能性のある粒子を識別するための自動監視装置を備えています。最後に、FSI/TEL/TOKYO ELECTRON ANTARESフォトレジストシステムは、製造とテストに関連する面倒な手動プロセスだけでなく、機器とコストの支出を削減するため、費用対効果が高いです。これにより、半導体企業は製品品質の向上と同時にコスト削減を図ることができます。全体として、FSI Antaresフォトレジストマシンは、半導体業界に大きなメリットをもたらす先進的なソリューションです。優れたパターニング精度、高真空環境、汚染防止機能、および費用対効果により、半導体デバイスを製造するための信頼性の高い高品質ソリューションを提供します。