中古 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON 915597-005 #9360975 を販売中

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON 915597-005フォトレジスト装置は、半導体ウェーハなどの基板上に非常に複雑な微細構造を生成するために設計されたフォトリソグラフィーシステムです。このユニットは、幅広いマスクサイズのパターンを高速かつ正確に再現可能なイメージングを提供するように設計されています。最大5フレーム/秒の露出速度、利用可能なフォトリソグラフィーマシンの最高解像度、および正確な露出制御を提供します。このツールには、4インチのステッピングフォトマスクが含まれています。このフォトマスクは、最大6インチの基板上で正確かつ再現可能なイメージングのためのパターンを提供するように設計されています。マスクからパターンを正確に捉えることができる高感度フィルムを採用しており、露出結果の向上と再現性の高いパターンを実現しています。このアセットには、フィルムフィーダと加工モデルが統合されており、露出間の簡単なセットアップとクリーンアップが可能です。装置には、システムのパフォーマンスをカスタマイズするための徹底的なイメージングツールも含まれています。これらのツールには、自動シャッター制御、自動アライメントおよびフォーカス制御、およびプログラム可能なウェハハンドラソフトウェアが含まれます。さらに、このユニットには露出制御ソフトウェアが含まれており、ユーザーは露出パラメータを簡単に調整してカスタマイズし、イメージング中に結果を監視することができます。最後に、このマシンにはさまざまなサイズと構成の基板の強化されたイメージングを提供するイメージング光学系が含まれています。これは、基板のサイズとパターンの解像度に応じて、可変焦点距離レンズを含みます。イメージングオプティクスは、可変深度イメージング、ハーフトーンイメージング、高コントラストイメージングなど、より複雑なパターニングに特殊効果を提供するためにカスタマイズすることもできます。全体的に、FSI 915597-005フォトレジストツールは、半導体ウェーハおよびその他の基板の高解像度、反復可能で汎用性の高いイメージングおよび処理に最適です。高精度の露出制御、イメージングツール、最先端の光学系により、複雑なマイクロストラクチャーを製造する際の柔軟性とカスタマイズが可能です。