中古 EVG / EV GROUP 101 #9229818 を販売中

EVG/EV GROUP 101フォトレジスト装置は、フォトマスクおよびリソグラフィ製造業界で使用される高精度のリソグラフィーシステムです。薄型ウェーハにおいて、精密かつ均一で反復可能なフォトレジスト操作を行うように設計されており、微細加工および半導体デバイス製造に最適なツールです。EVG 101は多軸分割軸構造を採用した高度なイメージングユニットです。機械は毛布のセクション、基質の処理セクションおよび光学イメージングのセクションから成っています。ブランケットセクションには、ブランケットクリーニングとコーティングチャンバー、多軸基板ステージ、ビームスプリッター、パターンアライメントツールが含まれています。基板加工部には、プレコーティングチャンバー、プレコートモノマー貯蔵庫、ローディングチャンバー、ソフトベーキングステーション、露出ステーション、ポストベーキングステーション、開発ステーションがあります。光イメージングセクションは、デュアルレーザー光源、光ディフューザー、レチクルで構成されています。EV GROUP 101フォトレジストは、プロジェクションリソグラフィ、光学プロジェクションステッパー、エキシマレーザーリソグラフィなどの高精度な画像処理が可能です。このモデルは、プレコーティング、パターンアライメント、露出、ポストベーキング、開発、マルチパスイメージングモードなど、高度に自動化されたイメージングプロセスを備えています。イメージング中に、高度な検査アルゴリズムを使用して、基板上のパターンの均一性と精度を分析することができます。この機器はまた、非常に微細な解像度で非常に小さな機能に焦点を当てることができます。さらに、350 mmまでのダイサイズで基板を加工するように設計されています。101は厳密な生産の条件のために設計されている堅牢で、信頼できる単位です。様々なフォトレジスト素材に対応しており、幅広い用途に最適な基板加工が可能です。機械はまた化学機械平坦化、スプレーのコーティングおよび分子自己アセンブリのような高度の技術と統合することができます。EVG/EV GROUP 101フォトレジストツールは、優れたパフォーマンスと柔軟性をユーザーに提供します。高精度フォトマスクや薄型ウエハの効率的かつ精密な生産を可能にし、高精度なリソグラフィ作業に最適です。