中古 EVG / EV GROUP 101 #293761358 を販売中

EVG/EV GROUP 101は、リソグラフィックレチクルのパターンを正確に開発するために設計された高度なフォトレジスト加工装置です。主に半導体産業で使用されるこのツールは、ハイエンドの機械部品と光学部品を組み合わせて、半導体生産に使用するための最高品質のレチクルを保証します。EVG 101は光感受性材料であるフォトレジストを沈殿させるのに高度の光学イメージングの技術を使用します。フォトレジストは、ウェーハやレチクル上にパターンを作成するために使用され、半導体、LED、およびOLEDデバイスの製造を可能にします。このツールの選択可能な機能により、125nm以上の解像度でレチクルパターンや画像を正確に低減できます。このシステムは、正確なパターン配置と測定に使用されるプリアライナーを備えており、均一で反復可能なレチクルパターンを達成することができます。さらに、高度な制御ユニットはセットアップ時間を短縮し、フォトレジスト沈着に関連する問題を自動化し、プロセス全体を迅速かつ信頼性の高いものにします。このツールは、フォトレジストの正確な配置を保証する高精度のX-Yステージで構築されています。電動のZ軸はレチクルの正確な動きを提供し、重要なパターニングプロセスの精度を保証します。このマシンにはソフトウェアスイートも含まれており、ウェーハサイズ、露出数、解像度、露出長、強度など、さまざまなパラメータをカスタマイズできます。また、最大5ナノメートルの速度でオートフォーカス機能を備えており、ツールで処理されたリテールの精度を向上させます。このツールは、フォトレジスト、正と負のレジスト、高分解能コーティングなど、幅広い材料で動作します。それは平らであるか、または曲げられることができるさまざまな基質と働くように設計されていて、さまざまな認識され、標準的なレチクルと働きます。全体として、EV GROUP 101は、精度と再現性に優れた複雑なレチクルパターンを生成するための理想的なソリューションです。その高度な光学イメージング技術は、フォトレジストの正確な沈着を保証します、その高度なソフトウェアは、ユーザーがパラメータをカスタマイズし、レチクルをカスタマイズすることができます。堅牢な設計と柔軟なプラットフォームにより、同年代を超えた半導体業界のニーズを満たすツールです。