中古 EVG / EV GROUP 101 #293749961 を販売中

EVG/EV GROUP 101は、現代のフォトリソグラフィのニーズに応えるために開発された汎用性と洗練されたフォトレジスト機器です。電子ビーム、反応イオンエッチング（E-ビームとも呼ばれる）の原理に基づいて、さまざまな基板に非常に薄いフォトレジストの層を正確かつ正確に堆積させます。このシステムは、さまざまなアプリケーションと要件に信頼性の高い一貫したエッチング機能を提供するように設計されています。EVG 101ユニットは、電子ビーム用の銃、顕微鏡、発電機で構成されています。電子ビームは、マシンの上部に取り付けられ、電子銃の電源と真空チャンバーが含まれている銃によって作成されます。真空チャンバー内では、フォトレジストパターンを保持するマスクに電子を操作して焦点を合わせます。この顕微鏡は、電子ビームの正確なアライメントとスキャンを可能にします。フォトレジストは、電子ビームを介して基板（通常はウェーハ）に適用され、開発者やクロスリンカーの化学物質にさらされます。これら2つのプロセスは、それぞれフォトデポジションとフォトデグラデーションと呼ばれ、完成したフォトレジストを形成し、ウェーハに適用されます。E-Beamプロセス中、銃は操作され、円弧のような動きで移動します。この円弧のような動きはVortex Motionとして知られており、基板のスキャンでビームを高速かつ正確にすることができ、正確でクリーンなエッチング結果を得ることができます。ビームはコンピュータソフトウェアによって絶えず制御され、プロセス全体は注意深く監視されます。フォトレジスト蒸着プロセスにより、フォトレジスト層の高分解能、多層蒸着が可能になります。また、様々なレジストレイヤーを組み合わせることができ、非常に薄い（マイクロスケール）パターンを作成することができます。さらに、このツールは、スルーホールやその他の様々な構造を直接エッチングしてクラッディングすることができ、機能的な金属化のための高分解能パターンを提供することができます。EV GROUP 101アセットは、高度なフォトリソグラフィープロセスのための信頼性と費用対効果の高いプラットフォームです。その高分解能機能、耐久性のある構造、および制御可能な電子ビームは、高度な生産ニーズの様々な信頼性と汎用性の高いフォトレジストモデルになります。