中古 EVG / EV GROUP 101 #293657969 を販売中

EVG/EV GROUP 101は、半導体産業で使用するために設計されたフォトレジスト機器です。このシステムは、材料の薄膜をウェーハに正確にエッチングできるように設計されています。エッチングはフォトレジストマスキングプロセスを使用して行われます。このプロセスは、ウェーハを光のパターンにさらすことによって機能します。光源は、光が露出している領域でフォトレジストコーティングを硬化させますが、他の領域では柔らかいままです。この柔らかい素材は、簡単にエッチングしてウェーハにパターンを作成することができます。EVG 101フォトレジストユニットには多くのコンポーネントが含まれています。マシンは、ウェーハに光のパターンをキャストするために使用される光源から始まります。この光源は、レーザー、高輝度の発光ダイオード（LED）アレイ、または精密な光パターンを提供することができる他のデバイスであることができます。フォトマスクは、ウェーハの特定の領域に到達する光を選択的に遮断するために使用されます。これはエッチングのためのパターンを作成します。次のステップは、フォトレジストをウェーハに適用することです。このフォトレジストは、ウェーハを被覆してエッチングから保護する薄膜の材料です。それはマスクによって妨げられた区域で柔らかく残るか、またはエッチング可能な間、光のパターンにさらされる区域で堅くします。エッチングされる材料の種類によって異なるフォトレジストを使用することができます。EV GROUP 101フォトレジストツールには、フォトレジストの反応ステーションも含まれています。このステーションは、フォトレジストの制御環境を提供するように設計されています。これは、真空チャンバー、温度制御アセット、フォトレジストを活性化するための紫外線光源で構成されています。このモデルには、フォトマスクを作成するために使用されるレーザーステーションも付属しています。このレーザーステーションは、マスクに光のパターンを投影し、光にさらされた部分をエッチングすることによって機能します。フォトマスクを複数回使用することで、他のウェハでも同じパターンを作成できます。101フォトレジスト機器の最後の部品はエッチングステーションです。ここでエッチング処理を行います。エッチング処理は真空チャンバーと化学処理を組み合わせて行います。EVG/EV GROUP 101フォトレジストシステムは、半導体業界で使用されるウェーハ上に正確なパターンを作成するために不可欠です。単位は正確なパターン制御および優秀な結果を可能にします。機械はまた使いやすく、経験の浅い人員によって作動させることができます。これらの理由から、EVG 101フォトレジストツールは、多くの半導体メーカーにとって人気のある選択肢であり続けています。