中古 EVG / EV GROUP 101 #293590409 を販売中

EVG/EV GROUP 101フォトレジスト装置は、半導体およびその他のマイクロエレクトロニクス部品の製造に使用されるモジュール式の高度なリソグラフィーシステムです。OPC （Optical Proximity Correction）と高度な設計機能を組み合わせ、優れた画質で正確にパターン化されたフィルムを生成します。このマシンは、フィルム上のパターンを作成し、開発するために、さまざまなリソグラフィー露出および後露光処理ステップを利用しています。モジュラー設計により、ツールを特定のプロジェクトのニーズに合わせて調整できます。コアコンポーネントには、光学モジュール、露光モジュール、アセットコントロールモジュール、ソフトウェアが含まれます。光学モジュールは、精密プロジェクションレンズ、露出スリット、真空カラムで構成されています。このモジュールは、露出媒体にパターンを投影するために使用されます。露光モジュールは、高輝度の水銀アークランプを使用して露光エネルギーを提供します。露出線量調節器および輸送は媒体への露出の配達を助けます。モデル制御モジュールは、露出されたフィルムのすべてを制御する操作の頭脳です。また、特定の材料タイプを公開するためのオプションも事前に設定されています。パターン設計、シミュレーション、最適化、露出後の処理には、さまざまなソフトウェアアプリケーションが利用できます。フォトレジスト装置はまた、複数の層の自動露出を可能にし、複雑なマイクロエレクトロニクス部品の製造に使用することができます。高品質の光学系を備えたモジュラー設計により、システムは優れたレベルのサブミクロン分解能と重要な形状を生成し、優れた均一性と鋭い地形を実現します。このユニットは非常にユーザーフレンドリーであるように設計されており、低い生産コスト、高い歩留まり、および要求の厳しい技術に適応する柔軟性を可能にします。これは、さまざまなマイクロエレクトロニクス部品を製造するためのリソグラフィープロセスの重要な部分です。高精度、柔軟性、ユーザーフレンドリーなインターフェースを備えたEVG 101のフォトレジストマシンは、マイクロエレクトロニクスコンポーネントのあらゆるメーカーに最適です。