中古 EDWARDS XE-200 #9070677 を販売中

EDWARDS XE-200は、表面上の高精度パターンとフィーチャーの生産のために設計されたフォトレジスト機器です。このシステムは、露出したサーフェスを選択的に変更するために光を使用します。露出した表面はフォトレジストでコーティングされたものです。フォトレジストシステムは、さまざまな用途に使用されていますが、XE-200は、密接な公差制御を必要とする正確なラインパターンに特に適しています。EDWARDS XE-200は、高解像度顕微鏡やスキャンレンズユニットなどの高度な光学系と、照明用のLEDのリニアアレイで構成されています。顕微鏡の倍率は20x〜60x、スキャンレンズの視野は1。2mmです。両レンズを組み合わせることで実現可能な被写界深度は0。2mmです。LEDアレイは、視野の均一なカバレッジを提供し、4つのあらかじめプログラムされた露出範囲を提供します。光学に加えて、XE-200は高度なソフトウェア制御を備えています。統合されたユーザーインターフェイスにより、露出パラメータを簡単に設定および調整できます。さらに、X-Yステージの正確な位置制御を可能にし、プラットフォームを素早く正確に動かすことができます。ソフトウェアはまた、露出パターンのカスタマイズ可能なプロファイルを可能にします。最後に、EDWARDS XE-200は、露出した表面の形状とサイズを正確に制御するための高度なマスキング技術を採用しています。これは、フォトレジストの特定の領域を抑制し、他の領域を露出させる特殊なマスクを使用することによって達成されます。このツールはまた、複数のサイズのマスクを備えており、より複雑なパターンを作成することができます。このマスキング技術は、非常に近い公差で機能を作成しようとするときに特に有益です。全体として、表面XE-200複雑で高精度なパターンを生成するように設計された高性能フォトレジスト資産です。高度な光学、ソフトウェア、マスキング技術により、これまでにない解像度と精度のラインパターンを作成することができます。産業用途でも科学用途でも、EDWARDS XE-200はフォトレジスト製造において可能な限り最高の精度を提供します。