中古 EATON / LSI 6000 & 6000XL #29581 を販売中

EATON / LSI 6000 & 6000XL
ID: 29581
ウェーハサイズ: 2-6"
Track Systems. Can be fully supports with Full PCB repair, remanufactured new or rebuilt, Custom configuration available.
EATON/LSI 6000および6000XLフォトレジストシステムは、イメージセンサー、メモリチップ、マイクロプロセッサなどの半導体の製造用に特別に設計された産業用システムです。フォトレジストシステムは、光を使用して半導体の部品をパターン化することを含みます。6000XLは、オリジナルの6000機器の更新版であり、より大きなプロセスエリア、パフォーマンスの向上、および拡張性の向上を提供します。LSI 6000は10x14インチの大きなプロセス領域で設計されており、単一のフォトレジストシステムでさまざまなパターンを生成することができます。ターゲットの初期露光はDigital Mask Aligner (DMA)によって行われ、目的の光パターンをターゲット基板に投影します。FFS (Full Field Scanning)技術を搭載し、基板のより正確なパターニングを可能にします。この技術はまた、正確さと一貫性を確保するために手動のDMAアライメントの必要性を排除します。さらに、EATON 6000は、半導体部品のサイドウォールを滑らかにして性能を向上させるポスト露出平滑化(PES)プロセスにも使用できます。さらに、自動露出検証(AEV)機能を搭載しており、照射値の精度を基準値に自動的にチェックします。これは、正確さとプロセスの一貫性を確保するのに役立ちます。最後に、EATON/LSI 6000XLは、標準の6000と比較してパフォーマンスとスケーラビリティを向上させます。このアップグレードされたモデルには、より大きな20x30インチプロセス領域、改良されたFFSテクノロジー、および改善されたユーザーインターフェイスが装備されています。さらに、このツールは標準の露出後の平滑化プロセスにアップグレード可能であり、ユーザーはそれに応じてセットアップをカスタマイズすることができます。結論として、LSI 6000および6000XLフォトレジストシステムは、半導体部品の製造および製造に特化して設計されています。これらのシステムは、元の6000モデルと比較してパフォーマンスとスケーラビリティが向上し、DMA、 FFS、 PESなどのさまざまな機能を備えています。最後に、アップグレードされたモデルは、精度とプロセスの一貫性を向上させるためのAEVも備えています。
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