中古 EATON 6000 XL #9099870 を販売中

EATON 6000 XLは、大量のリソグラフィおよび薄膜蒸着アプリケーション用に設計されたフォトレジスト機器です。これは完全に自動化された費用対効果の高いプラットフォームであり、集積回路、オプトエレクトロニクス、データストレージメディアなど、ますます複雑化するマイクロストラクチャーの生産を可能にします。このシステムの特許取得済みのフォトレジスト技術は、紫外線（UV）光を使用して感光基板上にパターンを露出させ、ナノスケール構造を作成するために開発されました。6000 XLは、精密リソグラフィと薄膜蒸着技術を利用しており、真空ユニットを介して基板上に化学成分からなる薄いポリマー層を堆積させる精密なプロセスです。このプロセスにより、ユーザーはポリマー層の厚さ、組成、地形を正確に操作し、ナノスケールで構造を作成することができます。リソグラフィーパターンの品質は、露出と開発プロセスのスループットと精度によって決定されました。機械で使用されるフォトレジスト材料およびその層は、優れたレジストの均一性、非常に低いアウトガス性、および高解像度を提供するように設計されています。このツールの高度な機能は、高解像度のイメージングを可能にする高性能イメージングアセットです。さらに、このモデルの特許取得済みのフォトレジスト製剤は、エポキシ、ポリイミド、BCB、ポリシリコン、その他の材料など、さまざまなコーティングと互換性があるように設計されています。装置によって達成することができるフィルムの厚さは50 nmから1 µmまでの範囲です。このシステムは、シリコン、プリント基板、さらにはテキスタイルなど、さまざまな基板で動作するように設計されています。操作も簡単で、特別なソフトウェアや専門知識を必要とせずにユニットを素早くセットアップして最適化することができます。ユーザーは容易に露出線量、波長および露出パターンを制御できます。また、両面加工も可能で、微細基板のバッチ処理にも対応しています。全体として、EATON 6000 XLは、産業および電子製造アプリケーション向けの堅牢で費用対効果の高いフォトレジストソリューションです。このツールは、さまざまな基板上に非常に複雑なナノスケール構造を正確かつ正確に作成する能力をユーザーに提供します。その高度なイメージング資産とフォトレジスト材料は、高解像度、均一性、および低アウトガスを保証するように設計されています。