中古 DOMINUS Opticoat ST30i #9218145 を販売中

DOMINUS Opticoat ST30iは、半導体製造のために設計された次世代フォトレジスト機器です。従来のフォトレジストシステムよりも優れた性能を提供し、幅広い用途に対応します。それは優秀な均等性および均一ライン幅を提供する高度、費用効果が大きい解決です。Opticoat ST30iは、標準的な化学増幅樹脂と化学的に変更された樹脂の両方を含む高性能、低温ベークレジストです。標準樹脂は、リソグラフィ精度を向上させるために可能な限り最小の線幅を維持しながら、優れた基板接着とライン形成を提供します。化学的に変更された樹脂は、従来のレジストよりも均一性が向上し、リソグラフィックの歩留まりとデバイス特性が向上します。このシステムには、反射防止製剤、コンタクトエッチングマスク、レジスト粒子濾過、厚いレジストなど、さまざまなレジスト製剤機能も搭載されています。この柔軟性により、さまざまなプロセスやリソグラフィのニーズに適しています。さらに、スプレーコーティング装置と取り外し可能なモジュールは、優れたプロセス能力と信頼性を提供します。DOMINUS Opticoat ST30iは、ライン幅とエッチプロファイルの均一性と重要な寸法制御を向上させます。幅広いプロセスウィンドウと登録精度の向上により、プロセスの安定性と再現性が向上します。その低温ベーキングは、高温ベーク回路の必要性を排除し、大幅なコスト削減をもたらします。このレジストユニットは、光学特性、熱、接着特性の向上など、従来のレジストよりも幅広いプロセス上の利点を提供します。低温ベイクはエネルギー消費と熱衝撃を大幅に低減し、光学特性の向上により光学的登録誤差が低く、焦点制御の深さが向上します。さらに、耐薬品性と接着性の向上により、レジスト層の長期的な性能が向上し、デバイスのランタイムが長くなります。Opticoat ST30iは、優れた性能、信頼性、およびコスト削減を保証する高度で低コストのフォトレジストマシンです。その優れた均一性と均一なライン幅は、優れたリソグラフィック歩留まりとデバイス特性を提供します。また、光学的、熱的、接着性の向上など、幅広いプロセスの利点を提供します。これにより、DOMINUS Opticoat ST30iは半導体製造に最適です。