中古 DNS / DAINIPPON SP-W813 #293643045 を販売中

DNS/DAINIPPON SP-W813は、半導体の製造に使用されるフォトマスクやウェーハの製造に特化した先進的なリソグラフィ装置です。シリコンウェーハ上に集積回路などを作成するための基本的なプロセスであるフォトリソグラフィ技術を利用しています。フォトリソグラフィーは、シリコンウェーハにパターンを転送するために光と化学プロセスを使用します。このユニットは、複数のコンポーネントで構成されています。DNS SP-W813は、光源、マスカーユニット、レチクルステージ、対物レンズ、LEDパッテン発生器、LEDアライメントユニット、フォトレジストコーティング機で構成されています。光源はLEDアライメントユニットに電力を供給し、LEDをレチクル段に正確に配置します。レチクルステージには、所望のパターン化されたイメージを持つバイナリコードされたマスクがロードされます。その後、マスクは、LEDパッテン発電機によって生成される極端な紫外線（EUV）光で照らされます。EUVライトは、フォトレジストでコーティングされたウェーハにマスクを通過します。このプロセスの間、光は望ましいパターンをウェーハに転送します。最後に、フォトレジストを開発して、ウェーハの特定の領域を硬化して硬化した材料に変換します。大日本SPW -813のフォトレジスト開発システムは、コンピューター制御のウルトラバイオレット露出処理により、開発時間の正確な制御を可能にします。フォトレジストツールは、LEDパターンジェネレータからのEUV光にさらされ、フォトレジストのフォトレジスト発電機を作動させ、フォトレジストを指定された領域から溶解させます。SPW-813は、高精度で高品質のウェーハを作成するための多数の機能を備えています。フォトレジストの開発後、DNS SPW-813には高解像度のイメージングアセットが組み込まれており、画像の歪みや粒度を最小限に抑えてクリアな画像を撮影・分析することができます。このモデルはまた、EUV排出量を正確に制御できるパラメータと、発熱部品を最小限に抑える埋め込み式の光学設計を容易に設定できます。最後に、DAINIPPON SP-W813は、処理時間の短縮とスループットの向上に役立つ最小限の自動化された生産設備を備えています。全体的SP-W813、フォトリソグラフィーシステムにはさまざまな機能とコンポーネントが装備されており、フォトレジスト開発の正確な制御、EUV排出量の正確な制御、およびユーザーがウェーハ上で最高品質の画像を作成できる精密なイメージング技術を提供します。これらの有用な機能とコンピュータ制御プロセスを備えたDNS/DAINIPPON SPW-813は、半導体の製造に使用される精密なフォトマスクとウェーハを作成するための最先端のシステムの1つです。