中古 DNS / DAINIPPON SK-200W #9181857 を販売中

DNS/DAINIPPON SK-200W Photoresist Equipmentは、さまざまな基板上の薄膜成膜用に設計された最先端のフォトレジストシステムです。このユニットは、デュアル周波数のエキシマレーザーを使用してシリコンフォトレジスト層を露出させ、高解像度パターンを作成します。このフォトレジスト層は、高度な回路基板の開発と製造に不可欠です。DNS SK-200W機は、高精度でイメージングされた照明ツールと、信頼性の高いパターン形成のための露光パワー制御を備えています。高速かつ効率的な露出仕様のためのユーザーフレンドリーなソフトウェアが含まれており、露出結果を所望の特性に適合させることができます。このアセットはまた、高度で均一でない光露光モデルにより、基板の問題と将来のプロセス関連の問題を軽減します。また、同じ基板上に複数のレーザー波長を同時に露出させることが可能であり、高度な回路基板の製造において非常に貴重な特徴となっています。システムの全体的な設計は、広い領域にわたって高解像度、汎用性とプロセスの再現性を提供します。その大きなカメラのフィールド形状は、画像表面全体にわたって最大の解像度を達成することができ、優れた結果を提供します。DAINIPPON SK 200Wユニットの性能向上により、サイクルタイムが短縮され、マシンの寿命にわたって所有コストが削減されます。このツールには、保護プレートリリースやセキュリティセンサーによって検出された自動停止など、ラボの安全性を高めるための安全機能も装備されています。アセットは空冷電源から電力を供給し、堅牢な設計のために最低限の保守とメンテナンスが必要です。DNS/DAINIPPON SK 200Wモデルは、CE、 UL、およびISO規格でも認定されており、特定の顧客およびアプリケーションのニーズを満たすために完全にフィールド設定可能です。フォトレジスト機器が効率的に稼働していることを確認するために、システムには完全なテクニカルサポートと包括的でユーザーフレンドリーなマニュアルが付属しています。全体として、SK-200Wフォトレジストユニットは、高度なアプリケーションに最適です。サイクル時間とプロセス関連の問題を削減しながら、優れた結果を提供します。マシンは、安全機能の広い範囲が付属しています、フィールド設定可能です、認定、完全なテクニカルサポートによってサポートされています。