中古 DNS / DAINIPPON SK-2000 #9277248 を販売中
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ID: 9277248
ウェーハサイズ: 8"
(4) Coater / (4) Developer systems, 8"
Resist temperature system
Resist Pump
Wafer shape: SNNF
Wafer cassette: 8" PP MIRAIAL
(2) Process blocks
(2) Coater heads
(2) Barc coater heads
(4) Develop heads
(2) Adhesion chambers
(10) Cooling plates
(12) Rapid hot plates
(3) Hot plates
(1) EEW
(1) EEFT
(1) IFB
(1) Source bottle cabinet
(1) Chemical box (HMDS/Solvent/NMDW)
(1) Controller cabinet
(1) Power box
(1) Handling unit controller
(1) Carrier station
(6) Nozzle
Cup:
Top cup material: PP
Middle cup material: PP
Bottom cup material: PPS
Spin chuck:
Material: Peek
Back rinse flow meter with flow sensor
Mist nozzle flow meter with flow sensor
Edge cleaner flow meter with sensor
With VPS+ option
Solvent solution supply
Drain central
Barc
Nozzle slit scan nozzle
Develop solution supply Central supply
Developer Cup PVC
Spin chuck PEEK
Develop nozzle flow meter with sensor
Develop nozzle wash meter with sensor
Rinse nozzle flow meter with sensor
Back rinse flow meter with sensor
Develop temperature System
Control for 1 line x 2
Drain central
Adhesion
Method vapor prime by N2 bubbling
Hot plate 60-150 deg by 0.1 deg pitch
HMDS solution supply central supply
Hot plate
Method proximity bake with ceramic ball
Hot plate 50-180 deg by 0.1 deg pitch
Cooling plate
Rapid hot plate.
DNS/DAINIPPON SK-2000は、レーザーと新しい光学システムを使用して露光パターンの精度を高め、数百ナノメートルという小型の特徴サイズの基板上で正確に機能を再現できるようにするデジタルフォトレジスト機器です。DNS SK2000は、基板上のスポットサイズ5 umに焦点を当てたパルスレーザービームを使用し、X-Yガルバノメータースキャナに取り付けられています。パルス幅は2から12nsまでプログラム可能で、エネルギーは50mJから1Jまでプログラム可能です。レーザーは精密X-Yガルバノメータースキャナに接続された垂直スキャナに取り付けられています。レーザーとスキャナーを同期させ、基板上に正確な露出パターンを作成します。次に、露出パターンはユーザーインターフェイスによって定義され、基板上の露出パターンの描画が可能になります。また、露光パターンと基板の膜厚を組み合わせた独自の光学ユニットを採用しています。これにより、数百ナノメートルと小さいサイズの基板上の正確な露出パターンが可能になります。さらに、露出パターンを特定の基板に最適化することができ、より高い精度と精度を得ることができます。DNS/DAINIPPON SK 2000は、レーザーおよび光学系に加えて、露光プロセスで温度感度の高い基板を使用できる温度制御ユニットを備えています。これにより、露出された材料の高い抵抗と耐熱性が可能になります。DNS SK-2000は、精度と精度に加えて、幅広い露光パターンを使用できます。フォトリソグラフィ、化学蒸着などの蒸着技術、ドライエッチングなど、さまざまな工程で使用できるように設計されています。幅広い露出パターンにより、スループットが向上し、プロセス時間が短縮されます。DNS SK 2000は、高度なフォトレジストマシンです。パルスレーザー、高度な光学ツール、精密スキャナ、温度制御ユニットなど、いくつかのユニークな機能を利用しています。これらの特長により、数百ナノメートルという小型の特長を持つ基板上の露光パターンを正確かつ正確に再現することができます。さらに、幅広い露光パターンにより、スループットを高速化し、処理時間を短縮できます。これにより、DNS/DAINIPPON SK2000、フォトリソグラフィ、成膜技術、ドライエッチングの幅広い用途に最適です。
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