中古 DNS / DAINIPPON 629 #9285138 を販売中

DNS/DAINIPPON 629は、DNSスクリーンが開発した高解像度フォトレジスト装置です。このフォトアクティブレジストは、従来のノボラック樹脂をベースにしています。このシステムは、高いアスペクト比の接触穴、トレンチ、ビアをパターン化するなど、半導体プロセスで広く使用されています。ULSI用のギガビット密度フィーチャーの作成；そして単位パッケージの基質の製作のための穴によってマイクロを形作ります。この機械は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（PGMEA）およびプロピレングリコールモノメチルエーテル（PGME）などの極性溶媒の2つの選択肢で提供されます。また、ディープUV （DUV）、 ArFレーザー、i-line、 G-line、 i-lineマスキングなど、高分解能と均一な収縮を備えた幅広い放射線照射を提供します。高感度で露光しやすく、均一なラインと空間（L/S）構造を作り出し、接着やライン端粗さ（LER）などの優れたフィルム特性を発揮します。このレジストアセットは、CMPプロセス中に最小のレジスト攻撃的なアンダーカットを備えているため、マルチレベルのコンタクトホール、トレンチ、およびビアプロセスに最適です。レジストモデルの改良されたアルカリ開発者は、より効果的なエッチングプロセスを可能にします。DNS 629フォトレジストフィルムは、高いアスペクト比の接触穴（HAR）を達成するための優れたウェットエッチング抵抗を備えています。レジストフィルムは、小さな角度AC振幅プロファイル、すなわち、低い基礎酸化物レベルでよりクリーンなサイドウォールプロファイルを得るために開発することもできます。また、熱安定性に優れているため、金属スパッタリング、リフロー、はんだ付けなどの高温プロセスに適しています。また、有機溶剤に良好な溶解性を有しており、基板表面へのバンプトップやマルチレベル表面の低距離での容易な適用性と良好な接着性を有しています。最後に、629フォトレジストユニットは優れた再現性を有し、SMIC、 UMC、 IMECの安全基準を満たしているため、環境的に安全であると考えられています。一般に、このレジストマシンは、高度なパッケージングおよび半導体プロセス用途に優れたフォトリソグラフィ性能を提供します。