中古 DNS / DAINIPPON 629 #9276178 を販売中
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ID: 9276178
ウェーハサイズ: 6"
Coater system, 6"
Loader / Unloader, 6"
Step motor driving system
Individual unit control
I/H Unit, 6"
Wafer handling arm material: SUS304
Wafer loading method: Handling arm with vacuum
Digital wafer sensor
Step motor driving system
Bake, 6"
Type: HP + CP
H.M.D.S Included
Wafer loading method: Wire moving with cylinder
Developer spin unit, 6"
Develop type: Rotation spray with spin motor
Chemical liquid discharge method: N2 Pressurization
Wafer chuck size, 70 mm
Spin cup
Polypropylene resin:
Upper: 8"
Lower
Nozzle type: Spray nozzle
Exhaust control system
Spin cover: Transparent acrylic
Maximum spin motor: 6000 RPM
Waste liquid drain: Natural drain
Wafer moving: Step motor
Coater spin unit, 6"
Coating method: Rotation with spin motor
Maximum RPM: 6,000
P/R Discharge method: BELLOWS Pump
Wafer chuck size, 70 mm
Spin cup
Polypropylene resin:
Upper: 8"
Lower
(2) Nozzles
Type: 1/8" / Track
Exhaust control system: Manometer
Spin cover: Transparent acrylic
Maximum spin motor: 6,000 RPM
Maximum P.R Dispense: 20 cc / 1 Strock
Waste liquid drain: Manual drain
Wafer moving: Step motor
Bake, 6"
Type: AGILENT / HP / HEWLETT-PACKARD / KEYSIGHT 2-Stage
Maximum temperature: 250°C
Wafer moving: Cylinder
Utilities:
Power supply:
AC, 110 V, 30 A, 1 Phase
AC, 220 V, 30 A, 1 Phase
Air pressure: 4 ~ 5 Kg/Cm²
N2 Pressure: 3 ~ 4Kg/Cm
Vacuum pressure: 60~70 CmHg
Spin exhaust: 100 mm (20 mmHg)
Bake exhaust: 70 mm (20 mmHg).
DNS/DAINIPPON 629は、日本のDNSスクリーン製造株式会社が設計したフォトレジスト機器です。このシステムは、半導体デバイスやその他の複雑な構造物の製造に使用されます。フォトレジスト材料の特性を利用して、製造工程でサブミクロンパターンを生成します。このユニットは、光源、レンズユニット、真空チャンバー、ステッピングモーター、入出力板、コントロールパネル、レーザーフォトセルなど、多くのコンポーネントで構成されています。機械で使用される光源は、フォトレジスト基板の特性を高精度で測定および記録するために使用される高強度レーザーです。これは、高解像度、低消費電力、およびパラメータを測定するための広いダイナミックレンジによって特徴付けられます。光源は、高精度の光学部品で構成されたレンズユニットに接続され、基板上の特定の点にレーザー光を集中させます。レーザーフォトセルは、露出領域を検出し、露出時間を測定するために使用される精密センサーであり、これにより、フォトレジスト基板のレーザーへの均一な露出を保証します。フォトレジスト基板は真空チャンバーに配置され、レーザー光にさらされる前に正確な平準化と位置決めを行います。入力/出力基板で制御されたステッピングモータを真空チャンバに取り付け、XY軸で基板を正確に移動させます。コントロールパネルを使用して、露出レベル、露出時間、露出領域などの制御パラメータを入力し、目的の結果を得ることができます。フォトレジスト基板が露出すると、画像処理が開始されます。その後、化学的または物理的なエッチング処理を使用して、フォトレジスト材料の露出部分を除去して、目的のパターンを作成します。その後、走査型電子顕微鏡、原子分解能顕微鏡、走査型顕微鏡など、様々なイメージングツールを用いてパターンの品質を確認・検証します。DNS 629ツールのイメージングプロセスは、半導体デバイスや複雑な構造の製造に不可欠な極めて微細な機能の製造を容易にします。
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