中古 DNS / DAINIPPON 629 #9218807 を販売中

DNS/DAINIPPON 629は、リソグラフィープロセス用に特別に設計された、クロムフリー、ポジティブトーン、近紫外線フォトレジストです。水系、近紫外線フォトレジストで、従来の有機開発者よりも高解像度のフォトリソグラフィを提供します。レジストの主成分は、水溶性を改善するために使用されるポリマーであるpolyvinylpyrrolidone （PVP）です。また、フォトイニシエータ、他のコンポーネントが写真露出時に速く劣化することを可能にする触媒が含まれています。また、緩衝剤として作用するマレイン酸などの酸発生器が含まれています。レジストには、水酸化ナトリウムや水酸化カリウムなどのアルカリ成分もあり、基材への接着を促進するためにレジストの表面張力を低下させるのに役立ちます。また、三次アミンなどの触媒を備えており、紫外線に近い光を浴びた際の露出後開発が可能です。DNS 629フォトレジスト装置の成功の鍵は、非導電基板への優れた接着性です。また、高温や放射にも耐性があり、高温プロセスや電子ビーム（EB）の存在下での使用に適しています。レジストはネガティブトーンであり、開発時にレジストの露出していない部分が開発者によって解消されることを意味します。しかし、露出した部分はほとんど無傷のままです。その結果、望ましい金属化の堆積の準備ができています。抵抗はまたエッチング方法の間に基質の表面を保護できます。DAINIPPON 629フォトレジストシステムの主な用途は、マイクロエレクトロニクスおよびオプトエレクトロニクスデバイスの製造です。フォトマスク製造、集積回路製造、その他の高解像度リソグラフィープロセスにも使用できます。また、低・高ジオメトリにも対応可能で、各種基板にも対応可能です。629フォトレジストマシンは、デバイス製造のための強力なツールであり、リソグラフィープロセスで優れた性能を提供します。その耐久性、非導電基板への優れた接着性、および高温および放射に対する耐性により、リソグラフィ集約プロセスに適しています。