中古 DNS / DAINIPPON 4-SC-80BW-AVE #293655891 を販売中
URL がコピーされました!
タップしてズーム
DNS/DAINIPPON 4-SC-80BW-AVEフォトレジスト機器は、ネガティブトーンのフォトレジスト技術です。フォトレジスト基板上の層のパターニングを可能にする半導体デバイス製造プロセスに使用するために設計されたシステムです。ユニットの名前は、4×8センチメートルで、DNSによって製造されているマシンの寸法を指します。このフォトレジストツールは、厚膜成膜、薄膜エッチング、リソグラフィー、誘電体成膜など、幅広い半導体製造プロセスでの使用に適しています。このアセットは、モノマー等級の分子量制御剤と反射防止コーティングを備えており、機能の向上と減算フォトレジストイメージングを可能にします。これにより、0。1ミクロンのラインのような小さな機能を様々な基板上で製造することができます。また、反射を最小限に抑えるように設計されており、レイヤー間の不均一な抵抗とパターン間の精度の向上を可能にします。装置はそれが否定的な抵抗であるので熱療法のフィルムの使用を、要求します。このフィルムは、フォトレジストをイメージする前に基板に適用されます。このフィルムは、イメージングプロセス中に基板を熱から保護し、レジスト移動を防ぎ、エッチングを改善する利点もあります。フォトレジストがイメージングされると、基板はフォトニックまたはイオンプロセスにさらされる可能性があります。熱療法のフィルムはまたレジストが基礎回路および部品に影響を与えないで取除くことができることを保障するように設計されています。これは面取りプロセスを使用することによって達成され、曲面でもレジスト除去が改善されます。また、パターンフィーチャーの精度や解像度を向上させるために使用されるディープUV露光などの技術も搭載しています。最終的に、DNS 4-SC-80BW-AVEフォトレジストユニットは、特にフォトレジスト基板上の層をパターン化する場合に、半導体製造プロセスに最適なソリューションです。モノマー等級の分子量制御剤と反射防止コーティングが特徴で、0。1ミクロンのラインなどの小さな特徴を正確に作り出すことができます。このツールには、基板を保護し、レジスト除去を改善する熱対策フィルムと深紫外線露出制御技術も含まれています。
まだレビューはありません