中古 DNS / DAINIPPON 200W #293797341 を販売中

製造業者
DNS / DAINIPPON
モデル
200W
ID: 293797341
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1999
Coater / Developer system, 8" Spin Coater (SC): Rotation speed: 0-6000 RPM (CW,CCW) PEEK Spin chuck Resist nozzle scan speed: 25-85 mm/s Pot rinse dispense flow: Maximum 30 mL/min Edge cleaner nozzle Back rinse dispense flow: 50 mL/min Cup material: PP, PPS SUS304 Exhaust material Resist dummy dispense: Auto / Pre-dispense Spin Coater (SC) / T-ARC: Rotation speed: 0-6000 RPM (CW,CCW) PEEK Spin chuck T-ARC Nozzle scan speed: 25-85 mm/s Pot rinse dispense flow: Maximum 30 mL/min Edge cleaner nozzle Back rinse dispense flow: 50 mL/min Cup material: PP, PPS SUS304 Exhaust material Resist dummy dispense: Auto / Pre-dispense Spin developer: Rotation speed: 0-6000 RPM (CW,CCW) PEEK Spin chuck Nozzle scan speed: 25-100 mm/s Nozzle cleaning dispense flow: Maximum 1 L/min Pure water rinse dipense flow: Maximum 2 L/min Back rinse dispense output: 4 Line Cup material: PP, SUS304 Exhaust material Drain: Liquid-vapor separation Resist dummy dispense: Auto / Pre-dispense UV Wafer Edge Exposure unit (EE): Vacuum sensor Image sensor detector Source: 200 W, HG - Xe lamp Illumination limit control: Feedback auto-control Indexer: Built-in SMIF ASYST INX 2200 Indexer Wafer detector Cassette defector POD Detector 1999 vintage.
DNS/DAINIPPON 200Wは、DNSスクリーン製造株式会社が開発した化学マイクロパターニング装置です。高解像度で複雑なパターンの生成を可能にするフォトレジストシステムです。このユニットは、精密な切断とステンシル機能のユニークな組み合わせが含まれており、優れたデバイス精度と使いやすさを提供します。DNS 200Wフォトレジストマシンは、2つの基本システムに基づいています。最初のツールは、基板上の小さな高解像度パターンの生産を可能にするフォトレジストアセットです。このモデルは、リアクティブイオンエッチング(RIE)とフォトリソグラフィープロセスの組み合わせを使用して、基板上にフォトレジストの薄膜を堆積させます。フォトレジストの薄膜は選択的に紫外線にさらされ、それが光化学反応を引き起こします。この結果、基板上にフォトレジストのパターンが堆積し、それを選択的に所望の形に移すことができます。2つ目の装置は、基板表面の精密な切断やパターンの生産を可能にする大日本200Wレーザーアブレーションシステムです。単位は基質の望ましい区域にレーザー光線を指示することによって働きます。レーザービームが基板に接触すると、材料の蒸発と蒸発を引き起こし、正確な切断またはパターンが得られます。このプロセスは高精度で再現性があり、複雑な機能の配列を生成するために使用できます。両方のシステムは、マイクロパッタ基板を製造するために200Wマシンで組み合わされています。フォトレジストツールは、基板上にフォトレジストフィルムを準備するために使用され、その後、適合パターンを生成するためにレーザービームにさらされます。フォトレジストフィルムとレーザービームの両方を正確に制御することにより、高精度で再現性の高いパターンを実現します。これらのプロセスを組み合わせることで、高精度で使いやすいマイクロパターンデバイス部品が製造されます。DNS/DAINIPPON 200Wフォトレジスト資産は、薄膜トランジスタアレイ、集積回路、太陽電池、センサなどの用途に広く使用されています。このモデルは、優れたデバイス精度と再現性を提供し、さまざまなアプリケーションに最適です。また、操作も簡単で費用対効果も高いため、多くの企業にとって魅力的な選択肢となっています。
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