中古 DELTA 4CJ #293628703 を販売中
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ID: 293628703
ウェーハサイズ: 6"-8"
ヴィンテージ: 2005
Photoresist coater, 6"-8"
Non-functional
Cybor pump
PC
2005 vintage.
DELTA 4CJは、プリント基板(PCB)や半導体装置の製造において、優れた光感度と高解像度を提供するために日立化成株式会社が開発したフォトレジスト機器です。このシステムは、他社のフォトレジストよりも水分や化学物質への曝露の影響を受けにくい、溶剤開発可能な負の作用ポリマー・マトリックスで構成されています。4CJユニットは、水に耐性があり、他のフォトレジストの早期劣化を引き起こす可能性のある強力なアルカリ溶液である変更されたシリコーンベースのポリマトリックスにより、優れた安定性を提供します。これにより、DELTA 4CJ機械は、長い溶媒サイクルを必要とする高温プロセスに特に適しています。4CJに含まれる変性ポリイミドも優れた分解能を発揮し、最大0。5ミクロンの微細ライン分解能を実現しました。DELTA 4CJの溶剤開発可能なポリマーは、最適な性能を得るために簡単なプロセス条件を必要とします。80〜90º Cの水系アルカリ開発者で10〜20秒の短いスピンサイクルで溶解するのに十分です。240º Cで30分間焼くと、開発が加速され、歩留まりが向上します。UV硬化センターから入手可能な4CJ光源などの高エネルギー紫外線光源へのEL-20Bツールの露光は、急速な溶解と高コントラスト画像開発をもたらします。DELTA 4CJ資産は、露出後の残留物に対して非常に耐性があり、これにより、導電性金属または誘電性層のその後の層の接着性が向上し、多層アセンブリでの製造が成功する可能性が高まります。また、耐久性に優れたポリマーマトリックスにより、露光後の寿命4CJ優れており、長期的にも優れた性能を発揮します。要するに、DELTA 4CJモデルは、その優れた解像度と安定性により、高性能PCBおよび半導体製造プロセスに最適です。装置の溶剤開発可能な性質も使いやすく、その優れた接着特性は複雑な多層アセンブリの成功を保証します。
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