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フォトレジストシステムは、光感受性材料を用いてフォトレジスト基板上にパターンを生成する基板加工技術です。カスタムカスタムフォトレジストシステムは、ファインパターンジオメトリの開発、さまざまなメディア上のパターンの整列と転送、コンポーネントのエッチングなど、電子業界でさまざまな作業に使用されています。フォトレジストシステムは、感光性層を光のパターンにさらすことによって機能します。このフォトレジスト材料の層は、適切な波長の光にさらされると暗くなります。光への露出を制御することにより、より標準的な技術では容易に達成されないファインパターンがフォトレジスト層に生成されます。カスタムフォトレジストプロセスは、オリジナルのフォトレジスト材料の準備から始まります。これは通常、望ましい回路パターンの比較的大きなサイズの正または負のイメージを作成することを含みます。カスタムカスタムパターンは、さまざまな方法でフォトレジスト基板に転送できます。印刷されたフィルムを使用することも、直接書き込み処理を適用することもできます。パターンが基板上にあると、フォトレジストは特定の波長の光にさらされます。フォトレジストは写真フィルムのように働き、光の影響を受ける領域を暗くします。この暗くなるプロセスはフォトリトグラフィーとして知られています。露出した後、フォトレジスト材料をさらに処理することができます。フォトレジストの開発は、独自の開発ソリューションまたは溶媒を使用して行うことができます。この結果、光にさらされていたところにフォトレジスト層がエッチングされ、基板上にパターンが作成されます。望ましいパターンが開発されれば、基質はエッチング、化学除去または他のプロセスによってさらに操作することができます。フォトレジストシステムを使用して、集積回路などの部品を製造することも可能です。エッチング後、フォトレシス層を剥離して再利用することができます。カスタムフォトレジストシステムは、他のタイプのプロセスでは容易には達成できない非常に細かい複雑なパターンの生産を可能にします。基板材料の複雑なパターンを開発するには比較的安価な方法であり、現代のエレクトロニクス製造プロセスの重要な部分です。部品の製造に使用することで、電子業界にとって非常に貴重なツールとなります。