中古 COST EFFECTIVE EQUIPMENT / CEE 200 #293590405 を販売中

費用対効果の高い機器/CEE 200フォトレジスト機器は、エレクトロニクス業界で使用されるコンピューター制御エッチングシステムです。反応金属化層を基板に適用し、レーザービームをパターン化することで機能します。その後、レーザービームを検出して分析し、エッチングパターンを決定します。CEE 200は、大型フォトマスクの製造から半導体デバイスの試作まで、さまざまなエッチング工程を提供する高精度で効率的なユニットです。このマシンは、特殊なフォトレジストアプリケーションツールと制御環境を使用して、目的のパターンを正確に構築します。コンピュータ制御のレーザーを使用して基板にパターンを描画し、精度の高いエッチングを可能にします。費用対効果の高い装置200資産は、幅広い処理パラメータで信頼性が高く、幅広い用途に適しています。200はいろいろな基質を収容し、紫外線レーザー光源の範囲の基質を露出できます。また、基板にフォトレジスト層を適用するために使用されるプラズマアプリケータも含まれています。プラズマは制御された環境で保持され、レーザーは基板上にパターンを描画するために使用され、目的のパターンを正確に作成できます。費用対効果の高い機器/CEE 200は、最高5 μ m/ピクセルの高解像度を備えた高効率モデルです。これにより、正確で正確なエッチング結果が得られます。また、予防メンテナンス機能を提供したり、潜在的な問題をユーザーに通知したり、インラインモニタリング機器を含めて、プロセスを改善するのに役立つ多くの機能を提供しています。CEE 200フォトレジストシステムは、安全性を考慮して設計されています。それは傷害の最低の危険を保障するために保護装置の範囲を含んでいる。レーザーとユーザーを保護する金属ハウジングと、有害ガスを含む発煙フードを備えています。また、レーザーおよびフォトレジストプロセスに使用される電力量を制御するためのソフトウェアも含まれているため、ユーザーはレーザーの電力を調整して害のリスクを最小限に抑えることができます。費用効果が大きい装置200単位はいろいろ適用のための優秀なエッチング用具で、精密なパターンを作成する効率的で、安全な方法を提供します。優れた機能を費用対効果の高い価格で提供し、エッチングやプロトタイピングプロジェクトに最適です。