中古 CONVAC CBA-M-2000-U #9152187 を販売中
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CONVAC CBA-M-2000-Uは、幅広い基板加工用に設計された汎用性の高いフォトレジスト機器です。ガラスやポリイミドなど、さまざまなウエハ基板上のリソグラフィ、ケミカルエッチング、スパッタリング処理が可能です。このシステムは光学リソグラフィーツールで、ウェーハの特定の領域のリソグラフィーエッチング用のパターンを含むマスクまたはフォトマスクを使用して、投影露光光学を使用して基板に放射を投影します。このユニットは、線形集光投影レンズを使用して光子を基板に集中させ、指定された領域にパターンを作成します。レンズは0。43の調整可能な数値開口（NA）を持ち、5。7mmから500mmまでの幅広いサイズの基板をイメージするように設計されています。レンズは、可視光と紫外線を含むさまざまな露光波長に対応するように調整することができます。レンズは、4インチまたは6インチウェーハの両方で動作するように構成することもできます。ウェーハのパターニングには、リソグラフィやエッチング処理の対象領域を指定したフォトマスクを設計し、露出エネルギーや線量を設定することができます。このツールは、0。5ミクロンのアライメント精度で、高精度のアライメントを備えているため、高耐性アプリケーションに適しています。ウェーハの傾きと回転も手動で微調整することができ、光学系の最適な性能を保証します。モデルの露出ステージは、一貫した精度と再現性を提供し、元の基準点に関してウェーハの正確な位置決めを可能にします。この装置は、さまざまなスパッタリングおよびリソグラフィ技術を可能にする組み込みの化学エッチング機能を提供します。このシステムには、最大10kWの選択可能なスパッタ電力が含まれており、スパッタ時間は基板サイズと所望の結果に合わせて調整することができます。さらに、レジスト材などの保護フィルムを使用して基板をラミネートすることも可能です。全体的CBA-M-2000-Uは、幅広い用途で使用できる高度なフォトレジストマシンです。その耐久性と堅牢な機能は、簡単なセットアップと組み合わせて、高精度フォトリソグラフィを利用したいユーザーにとって理想的な選択肢です。
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