中古 CND PLUS CIE-2C02(04)-C #9223039 を販売中

CND PLUS CIE-2C02 （04） -Cは、フォトリソグラフィープロセスのために開発された正のCIE-2C02 （04）に基づいたフォトレジストシステムです。従来の正フォトレジストよりも優れたエッチング特性と耐薬品性を提供し、欠陥率の低い回路パターンを正確かつ均一に構造化できます。レジストは、クロスリンク可能なポリマー、光と酸素のブロッカー、および光活性化合物（PAC）の3つのコンポーネントのブレンドに基づいています。このブレンドは、他の光化学的および熱的に安定した化合物と組み合わされ、放射線感受性エマルジョンを作り出します。光や放射線にさらされると、エマルジョンはエネルギーを潜在的な画像に変換します。ライトブロッキング剤は不要な背景画像の形成を減らすのに役立ちますが、PACはレジストの接着性を高めます。クロスリンク可能なポリマーは、光触媒の劣化からレジストを保護し、安定性を向上させるのに役立ちます。光にさらされると、潜在的な画像は、レジストの重合を開始するPACによって増幅されます。増幅された画像は、正確で正確な線幅の高解像度パターンを作成するのに役立ちます。露出後焼け（PEB）の間に、抵抗の融点の下でまたは上の生成された熱はよりよい解像度に導く潜在的なイメージをさらに増幅するのを助けます。CND PLUSは、基本的および酸性エッチング化学への耐性を備えた優れたレジストおよびエッチング特性を備えています。また、ウェットエッチングとフィルムの接着性を向上させ、バックグラウンドの傾斜を最小限に抑え、欠陥率を低減しています。レジストは、反射防止コーティング、露出後のベーク、開発後のベークなど、標準的なフォトレジスト処理と互換性があります。また、従来のフォトレジストと比較して保存寿命と保管安定性が向上し、長期的な保管能力が得られます。要約すると、CND PLUS CIE-2C02 （04） -Cは、リソグラフィープロセスに高解像度、精度、均一性を提供するように設計された正のフォトレジストシステムです。優れたエッチング、接着、およびストレージ特性により、レジストは、欠陥率を最小限に抑えた回路パターンの製造に信頼性の高い代替手段を提供します。