中古 CIBA GEIGY CLD 3 #94697 を販売中

CIBA GEIGY CLD 3は、CIBA GEIGY株式会社が開発したフォトレジスト機器です。それは負の作用フォトレジストであり、つまり、露出していない領域を取り除き、露出した領域が残り、不要な部分を選択的に露出してエッチングすることによってフォトレジスト内のパターンを作成することができます。このシステムは、集積回路設計などの微細で複雑で高精度なパターンを生成するために特別に設計されています。基板表面に感光材料の薄膜をコーティングすることで機能します。このフィルムは、露出された材料を分解する光に選択的にさらされ、露出されていない材料が影響を受けないままになります。露出された材料は、化学溶媒、エッチング工程、または他の方法で除去されます。フォトレジストの残りの部分は、さらなるエッチングや加工のためのマスクとして機能します。CLD 3の場合、フォトレジストは新しい製剤で構成されており、露出シフトが最小限で、エッチング抵抗が強いため、非常に安定しています。CIBA GEIGY CLD 3フォトレジストユニットは、正しく露出して開発された場合、優れた解像度と簡単な処理を提供します。最小の機能サイズは、使用される機器に依存しますが、0。25ミクロンのサイズにすることができます。また、ハイコントラスト印刷により、フォトレジスト層のエッチングソリューションが強化され、より信頼性の高いエッチング結果が得られます。ガラス、金属、プラスチック、半導体材料など、さまざまな基板で使用できるため、柔軟性にも優れています。要するに、CLD 3フォトレジストツールは、集積回路やその他の用途に特化したデバイスの微細で複雑で高精度なパターンを作成するための業界標準です。信頼性が高く安定しており、0。25ミクロン程度のサイズの特徴を生み出すことができ、幅広い基板に使用でき、優れたコントラストとエッチング抵抗を提供します。