中古 CHEMALUX PSR 300 #9253609 を販売中

CHEMALUX PSR 300は、さまざまなアプリケーションで使用するために設計された高性能フォトレジスト機器です。フォトレジスト（Photoresists）とは、光源と相互作用し、様々な基板上で画像パターンを生成できるように設計された化学システムです。このシステムは、一般的に450〜490 nmの波長の光源を使用し、最小線幅が1ミクロン未満の画像を生成することができます。PSR 300フォトレジストユニットは、コーティングおよび露光プロセスに関与するコンポーネントと、開発およびその他の後処理ステップに関与するコンポーネントの2つの部分に分かれています。コーティングおよび露出部品には、ディスペンスユニット、ロールコーター、およびCAT 500プログラマブルライトエクスポーザーが含まれます。ディスペンスユニットは、フォトレジストの均一で一貫した層で基板をコーティングするために必要な正確なフロー制御を可能にします。その後、ロールコーターはフォトレジストを薄く均一なフィルムに広げます。CAT 500プログラマブルライトエクスポーザーは、プログラマブルレーザーを使用してフォトレジストに光を照射し、特定のパターンで基板を露出させます。この機械の開発および後処理の部品には、リンスステーション、硫酸プラズマストリッパー、および開発タンクが含まれます。洗浄ステーションは、基板が処理される前に洗浄されることを保証します。硫酸プラズマストリッパーは、基板からフォトレジスト層を除去するために使用されます。最後に、開発者タンクは、基板上の残りのフォトレジストを溶解し、イメージングプロセスを完了するために使用されます。CHEMALUX PSR 300フォトレジストツールは、一貫した画像生成、高精度な画像パターン、および露出可能な幅広い基板をユーザーに提供します。この資産は、マイクロエレクトロニクス、医療機器、プリント回路など、さまざまなアプリケーションを生産することができます。さらに、このモデルの簡素化された操作制御は、ユーザーが迅速にスピードを上げることを容易にします。