中古 CHEMALUX 300 #9253608 を販売中

CHEMALUX 300は、多様な基板に耐薬品性コーティングを施すことができるフォトレジスト装置です。このシステムは負のレジスト、通常はポリマー材料で構成され、その上に正のフォトレジストが適用されます。300は、負のレジストが最初に適用され、次にフォトレジストが負のレイヤーに適用される多層ユニットです。フォトレジストは、UV-Cスペクトルの放射線にさらされたときにのみ反応する感光性、光感受性ポリマーです。これにより、正確なパターニングとフォトリソグラフィが可能になります。CHEMALUX 300フォトレジストマシンは、半水性開発剤、化学溶媒、感光性化合物を含む感光コーティングで構成されています。このツールが紫外線にさらされると、光によって誘発される反応が起こり、インタラクティブレジスト層が形成されます。レジスト層は、反応性のある化学プロセスから下の基板を保護する「ケミカルシールド」として機能します。レジストレイヤーは、さらなる処理のための優れた基盤も提供します。基板の特定の部分をマスキングし、遮光材を使用することで、望ましいパターンを生成することができます。300は優れた接着性と耐薬品性を備えており、ガラス、金属、シリコン、ダイヤモンドなど様々な基板に最適です。これは、伝統的な金属マスキング技術よりも大きな利点を提供し、非常に正確で複雑なパターニングを可能にします。さらに、CHEMALUX 300は200°Cまでの温度に影響されないため、エッチングや堆積など幅広い用途に使用できます。フォトレジストアセットを使用するために、基質は塩酸溶液または溶媒のいずれかで最初に感作されます。これはフォトレジストの基板を準備します。その後、フォトレジストを塗布し、乾燥させます。フォトレジストを適用すると、露光光源を使用して基板をパターン化します。300の抵抗モデルは非常に敏感で、非常に精密なパターニングを可能にします。最後に、基板は、プロセスを完了するために開発者ソリューションに没頭しています。CHEMALUX 300は非常に汎用性と信頼性の高いフォトレジスト機器です。それは速く、有効、費用効果が大きい、優秀な付着および化学抵抗を提供します。UV光に対する感度が高いため、エッチングやデポジットなど様々な工程に使用できます。フォトレジストシステムは、半導体デバイス、フラットパネルディスプレイ、フォトリソグラフィ部品の製造に一般的に使用されています。