中古 CEE 150CB #9147039 を販売中

CEE 150CBは、高品質のマイクロフォトリソグラフィ構造を生成するように設計された高品質のフォトレジストフォトマスク機器です。フォトレジスト乳剤と光感受性フォトレジスト乳剤からなる2部構成のシステムです。フォトレジスト乳剤には、溶剤、添加剤、バインダー、光活性化合物（PAC）が混合されています。光に敏感な乳剤は、4つの異なる光に敏感な材料で構成されています。光にさらされると、これらの材料はPACと反応し、基板の上にフォトレジスト層を形成します。フォトレジスト層はフォトリソグラフィープロセスのマスクとして機能します。露出後、フォトリソグラフマシンを使用してフォトレジスト層にエッチング構造を作成します。フォトレジスト層は溶媒で除去され、望ましい構造のエッチングされた特徴のみを残します。150CBの光感受性エマルジョンは、高感度、優れた接着性、およびフォトリソグラフィープロセス中の優れた分解能を提供します。これにより、半導体デバイスの製造、光ファイバ通信、薄膜マイクロセンサーなど、さまざまなフォトリソグラフィ用途に適しています。フォトレジスト層は非常に均一で欠陥がないため、CEE 150CB機の高品質エマルジョンによってもフォトレジスト層の調製が容易になります。これにより、エッチメカニズムをきれいに保ち、高品質の結果を保証します。最後に、150CBツールの高感度の光感受性エマルジョンは、フォトリソグラフィープロセス全体にわずかな露光時間とフォトレジストが必要であるため、所有コストも低くなります。これにより、予算が重要な考慮事項である小規模アプリケーションに最適です。全体として、CEE 150CBは、高品質の結果を手頃な価格で提供する信頼性の高いフォトレジストフォトマスク資産です。様々なフォトリソグラフィープロセスに適しており、マイクロフォトリソグラフィー構造に汎用性の高いソリューションを提供します。