中古 CARL ZEISS ZBA 21 #9208417 を販売中
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販売された
ID: 9208417
ウェーハサイズ: 6"
Electron beam lithography system, 6"
Includes:
Variable shaped system
Shot size: 100×100 nm² - 6.3×6.3 µm²
Maximal substrate: 7" Square
Electron energy: 20 keV
Manuals
Spare parts
Micro components :
Microelectronics
Reticles
Grids
Resolution target
Micro lens
Fresnel lens
Diffractive optical elements
Computer generated holograms
~1990 vintage.
CARL ZEISS ZBA 21フォトレジスト装置は、精密イメージングのためのフォーカスの深さを業界をリードする高度なレジストシステムです。このユニットは、高度な基板から特殊なアプリケーションまで、幅広いリソグラフィ用途を最適化し、特定の露光波長に対応しています。CCDカメラを搭載したコンピュータビジョン技術をベースにした自動ビジョンマシンを搭載し、研究開発と製造の両方に適しています。この機能により、高精度のアライメント制御と自動焦点最適化が可能になります。さらに、このソフトウェアは、基板の種類、層の厚さ、およびツールのパフォーマンスに影響を与える可能性のあるその他の機能をインテリジェントに調整することができます。ZBA 21は、XY方向に3 µmの精度を繰り返し、6インチウェーハに15 µmの微細なピッチ機能を備えた、1時間あたり最大650ウェーハのプロセス速度を備えています。その露出波長範囲は157nmから400nmであり、デバイスの性能向上、オーバーレイ登録、およびその他の生産要件のための資産をさらに最適化します。さらに、フォトレジストモデルは、ユーザーが特定のニーズに応じて適切な露光波長を選択して調整できるチューナブルスペクトラム機能などの高度な技術力により、より優れた均一性と線幅制御を提供します。また、ダイナミックイメージング技術により、ユーザーは深さから浅い深さまでのイメージングモードを最適化することができます。CARL ZEISS ZBA 21は、高精度イメージング技術と自動化された機能を組み合わせ、ユーザーにターゲットとする機能を備えた優れたフォトリソグラフィ性能を提供します。ソフトウェアインターフェイスの設計、データ分析、自己診断により、ユーザーはワークフローを合理化し、自信を持って意思決定することができます。これにより、幅広いエンゲージメントに最適です。
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