中古 CALITECH CT-605D #9184176 を販売中

CALITECH CT-605Dフォトレジスト装置は、幅広い用途に適した汎用性の高いプロフェッショナルグレードのツールです。モーター式フィルムステージを備えた可動式光学アセンブリと、マスクの作成、アライメント、レイヤーパターニングを支援するユーザーフレンドリーなソフトウェアを備えています。フォトレジスト素材を様々な基板に正確に分配して被覆し、紫外線エネルギーで硬化させ、様々な産業での使用に適しています。CT-605Dは最大2つの4 「x 5」フォトマスクまたは4 「x 6」メタライゼーションマスクを処理でき、最大処理能力は6 「x 12」フォトマスクまたは10 「x 10」メタライゼーションマスクです。このシステムは、フィルムステージ内のマスクの迅速かつ正確な調整/再作成を可能にする、高度なシーンマッピングとタッチスクリーン操作を備えています。再現性を確保するために、CALITECH CT-605Dには、任意のずれを検出できるデュアルセーフティルトセンサーが装備されています。プロフェッショナルレベルのフォトレジストユニットには、350-420 nmの広い波長範囲を誇る高度な光学設計が施されています。デュアルゾーン光学設計は、フォトマスクとレジストフィルムのアライメントの自動アライメント機能を備え、マスクを基板に高精度にアライメントするように設計されています。反復可能な結果のために光学変数設定は調節可能です。さらに、CT-605Dフォトレジストユニットは、露光時間の正確な制御、超高精度の膜厚制御、異なるパルスレベルでの可変エネルギーおよび処理時間、および機械保護機械など、さまざまなプログラム可能な機能を提供します。このツールはまた、適切な層や材料にレシピをキャリブレーションすることを容易にする調整可能な処理パラメータを提供します。このアセットは、フラットパネルディスプレイ（FPD）製造、センサ製造、タッチパネル製造、半導体ウェーハおよび誘電体コーティング、微細加工、ナノインプリントリソグラフィ（NIL）などの用途に最適です。先進的な設計とファームウェアにより、CALITECH CT-605Dは、高度な光学アセンブリ、MEMS、ナノテクノロジーの製造など、航空宇宙関連のアプリケーションにも適しています。