中古 BREWER SCIENCE CEE 100CB #9237990 を販売中

BREWER SCIENCE CEE 100CBは、リソグラフィープロセス用に特別に設計された包括的なフォトレジスト機器です。バブル技術に基づいて独自に設計されているため、最先端のナネティックデバイスと高度な3D LP構造を生産することができます。それは均一なポリマー行列と均一に反応し、堅牢な性能と安定性を提供するフォトレジスト化学物質を持っています。さらに、それは統合されたポスト露出ベーキングプロセスを提供し、使用する準備ができています。このシステムは、均一な開発を支援する液体開発者を使用し、余分なフォトレジスト材料を除去し、正確な膜厚制御を可能にします。このフォトレジストユニットは、高解像度の高品質フィルムを生成するのに役立つ高度なコントラスト制御で設計されています。この機械はまた広い露出緯度のイメージ投射を可能にする高い容解性を備えています。さらに、90nmまでの高解像度機能を可能にします。このツールはまた、低露光エネルギー要件で設計されており、低スループットと歩留まり向上を可能にします。BREWER SCIENCE CEE 100 CBのもう一つの特徴は、界面活性剤の全体的な性能によって生成される表面平坦性の向上です。この機能は、デバイスの歩留まりを改善することができるという点で有益です。また、このアセットは複数の誘電体と互換性があり、複数のドライエッチング処理をサポートしています。そのポリマーマトリックスは、極端な環境にさらされたときに設計と画像が劣化しないように設計されているため、最適なフィルム性能が得られます。このモデルのもう1つの特徴は、フォトレジストの最高の均一性を保証するスピン速度変動です。また、反射や信号損失を低減する反射防止コーティングで設計されています。また、シングルパターニングプロセスとダブルパターニングプロセスの両方をサポートすることができます。また、優れた登録精度を備えているため、大規模なウェーハ上での確実なパターン転送が可能です。さらに、アルミニウムと銅の相互接続ラインからの金属汚染に耐性があるように配合されているため、チップの長期的な信頼性が向上します。結論として、CEE 100CBフォトレジスト装置は、ナノファブリケーションやマイクロエレクトロニクスなどのアプリケーションで最適な結果を達成するために設計された高度で包括的なシステムです。優れた解像度で高品質なフィルムを製造するのに役立つ、均一な開発や高解像度の機能など、多くの便利な機能を備えています。さらに、ポリマーマトリックスと反射防止コーティングにより、長期的な信頼性が向上し、過酷な環境でのパフォーマンスが向上します。