中古 BREWER SCIENCE CEE 100 #9329155 を販売中

BREWER SCIENCE CEE 100は、光感受性ポリマーを使用して基板上にパターンを作成するリソグラフィ処理用のフォトレジスト装置です。このシステムは、光に敏感な化学物質、またはフォトレジストを使用しています。フォトレジストは、一般的に薄い層で基板に適用され、目的のパターンを作成するために光に選択的に露出されます。露出したフォトレジストは洗い流され、基板内のパターンが明らかになります。BREWER SCIENCE CEE-100は、高解像度のフルカラー印刷ユニットを使用して、このコンセプトをさらに引き出します。特許取得済みのデザインを使用することで、従来の手法よりも迅速かつ正確にパターンを作成できます。また、印刷プロセス中に溶剤やその他の過酷な化学物質を使用する必要がなくなり、複雑なデザインが生成されます。CEE 100は、紫外線、または超紫外光源を使用しているため、他のフォトレジストシステムよりも高解像度のパターンを生成する機能を提供します。この光源は、基板に到達する前にさらにマスクを通してろ過される強烈な光のビームを生成します。これにより、フォトレジストは望ましい領域にのみ露出し、信じられないほど詳細なパターンを作成することができます。さらに、CEE-100には自己参照された光学ドライブツールが含まれており、基板とパターン作成に使用されるマスクを正確に配置することができます。これにより、プロセス中にすべての要素が適切に整列されます。このアセットを使用すると、マルチレイヤアプリケーション用の基板上にパターンを正確に配置したり、追加の処理ステップに統合したりすることもできます。全体として、BREWER SCIENCE CEE 100は、他のシステムよりも高解像度の複雑なパターンを作成するためのユーザーフレンドリーなフォトレジストモデルを提供します。UV光源とともに自己参照された光学ドライブ装置により、過酷な化学薬品や溶剤を最小限に抑えて基板上のパターンを正確かつ迅速に生成できます。このシステムは、プリント基板からマイクロエレクトロニクス部品の製造まで、さまざまな用途に適しています。