中古 BREWER SCIENCE 200X #9400327 を販売中

BREWER SCIENCE 200Xは、プロセス制御の最適化、欠陥の低減、歩留まりの向上を目的としたウェーハ処理用フォトレジスト装置です。フォトレジストは、マイクロチップなどのデバイスの製造に使用される光感受性材料です。200Xシステムは、フォトマスクを通してフォトレジストを露出させ、ウェハを開発して希望のパターンを作成するために使用することができます。BREWER SCIENCE 200Xフォトレジストユニットには、いくつかのコンポーネントが含まれて。これらには、トッププレート、ボトムプレート、露出ヘッド、光源が含まれます。トッププレートにはフォトマスクが付いており、ボトムプレートはフォトレジストを保持しています。露出ヘッドは光学系で構成されており、希望する光のパターンをフォトレジストに正確に集中させるように設計されています。光源は197 nmと248 nmの範囲の波長を持つ高輝度光源です。フォトレジスト200X、高い精度で幅広い機能でパターンを作成することができます。このツールは、長期的で信頼性が高く、繰り返し可能なプロセス制御を保証するように設計されています。特に高度な集積回路に必要なような小さな機能を備えたフォトマスクに対応できるように設計されています。BREWER SCIENCE 200Xは、高度なプロセス制御および最適化ツールも提供しています。これらには、露出プロセスを監視および管理するプロセスコントローラ、およびウェーハの水冷、プレベーキング、ポストベーキングなどのプロセスが含まれます。他のツールは、フォトレジストコーティングの厚さと画像のコントラストの監視とリアルタイムでプロセスデータの収集を可能にします。また、フォトレジストアセット200Xは、ユーザーフレンドリーなPCベースのソフトウェアインターフェイスを提供しています。これにより、露出やプロセスパラメータを調整する機能など、リモートからモデルにアクセスして制御することができます。また、自動視力検査システムと併用することで、フォトレジスト画像の自動検査が可能となり、パターンのチェックや欠陥の検出が可能です。全体的に、BREWER SCIENCE 200Xフォトレジストユニットは、プロセス制御の最適化、欠陥の低減、歩留まりの改善により、ウェーハ処理に効果的なツールを提供します。高度なプロセス制御と最適化、およびユーザーフレンドリーなPCベースのソフトウェアインターフェイスを提供します。このマシンは、高精度の幅広い機能を備えたフォトレジストのパターン作成に適しています。