中古 ASML XT 1900Gi #9298751 を販売中

ASML XT 1900Giは、半導体産業におけるリソグラフィ機器のリーディングサプライヤーであるASMLが開発したフォトレジスト機器です。このシステムは、半導体デバイス製造プロセスで使用されるフォトリソグラフィックツールで、半導体ウェーハ上にパターンを作成します。深いUVリソグラフィーユニットをベースに、ウェーハ上に高精度なパターンを作成するために使用されます。このマシンは、Eビーム露光源とMercuryアークランプ源を採用しています。このツールの露出源は、用途に応じて147 nmから193 nmまでの広範囲の波長が可能です。露出源には、調整可能なレーザーシャッターとレチクルパラメータも備えています。このアセットには、光学設計とスプリットフォーカス技術を組み合わせた高度な光学モデルが装備されています。この装置は、粒子の汚染を低減し、光学的劣化を低減するように設計された最先端のウェハチャックを備えています。システムのフォトレジスト処理は高度なコントローラによって制御され、プロセスの一貫性と正確さを正確に制御できます。このユニットは、さまざまな化学物質と互換性があり、溶媒およびドライエッチングプロセスの両方をサポートしています。また、ArF、 KrF、 Iラインなど、さまざまなフォトレジスト素材を取り扱うことができます。このツールは、マルチチャンネル、高解像度のウェーハステッパーを備えているため、露出ツールとしても使用できます。ステッパーは高分解能の線形モーターおよび速い軸線の補償の技術を特色にします。さらに、最大600mmまでの基板を取り扱える大型チャックテーブルも搭載しています。このモデルの高度な自動化機能は、生産稼働を管理するための効率的で信頼性の高いソリューションを提供します。ASML Automation Serverと統合されているため、生産プロセスを簡単に管理および最適化し、1つの中央にある場所からすべての生産実行を監視および制御できます。装置の自動化機能に加え、エッチング、レジスト、クリーンプロセス用の露光源への化学物質配送を制御できるケミカルデリバリーユニットも装備しています。このマシンには、サンプル処理の効率的なワークフローを提供するサンプル管理ツールも装備されています。全体として、ASML XT:1900GIフォトレジスト資産は、リソグラフィ用途向けの強力で信頼性の高い露光ツールです。高度なプロセス精度、自動化機能、柔軟性を提供します。このモデルは、ウェーハ上に高精度の半導体パターンを作成するための費用対効果の高いソリューションです。