中古 AND ASP-2000 #9373109 を販売中

AND ASP-2000 Photoresist Equipmentは、高精度と高速で光電子製品を複製するための自動およびプロセス制御ソリューションです。半導体基板上に細線やパターンを生成するように設計されており、リソグラフィなどの手動技術を必要としません。ASP-2000システムは、フォトレジストフィルムを指示された制御された光にさらすことで、望ましいパターンを開発することによって機能します。AND ASP-2000は、信頼性と正確な結果を保証するために、多くの先進技術を備えています。それは光学露出、洪水露出、無限露出および調理法によって管理される露出を含む複数の露出技術を、支えます。さらに、真空ユニット、ポジショニングマシン、コントローラ、リアルタイムのフェイスプレート監視ツールなど、いくつかの制御システムも装備されています。ASP-2000アセットはターンキー操作を使用します。つまり、ユーザーはプロセスを開始するために必要なパラメータのみを選択する必要があります。使いやすいユーザーインターフェイスと、あらかじめプログラムされたレシピの包括的なライブラリが付属しているため、迅速なセットアップと起動が可能です。さらに、このモデルは最適なパフォーマンスのための自己診断も提供します。AND ASP-2000は、高解像度パターンレプリケーション、デバイス製造、ウェーハ登録、導波路製造、および光学マスク設計など、さまざまな光電子アプリケーションに使用できます。さらに、AZ、 Shipley、 EKC、 Rohm Haasなどの幅広いフォトレジスト材料との優れた互換性を提供します。ASP-2000装置には、高度なプロセス制御技術も搭載しています。これには、最短露光時間、最長露光時間、ピークホールド、バーストおよびポスト露光プロセスなどの複数のプロセス制御パラメータが含まれ、すべてが正確な結果を保証するために最適化されています。プロセス制御機能により、異なるタイプのフォトレジストフィルムにも対応でき、潜在的なプロセスエラーを検出することができ、信頼性と再現性の高い操作を提供します。全体的に、AND ASP-2000 Photoresist Unitは、正確なオプトエレクトロニクスデバイスのレプリケーションのための信頼性と正確な自動化ソリューションです。Industry 4。0技術に準拠するように設計されています。また、独自の高度な技術を活用して、最適な結果をさらに確保しています。