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AMAT / APPLIED MATERIALS Raider ECD
ID: 9197689
Electrochemical deposition system.
AMAT/APPLIED MATERIALS RAIDER ECDは、優れたフォトリソグラフィ用途を可能にする先進的なフォトレジスト機器です。このシステムは、優れた解像度、低い欠陥、およびアルカリに対する耐性の向上を提供する正のトーン、電子ビーム感受性フォトレジストユニットに基づいてソリューションを開発しています。これは、さまざまなフロントエンドおよびバックエンド処理アプリケーションのパフォーマンスに最適化されています。AMAT Raider ECDで利用されているフォトレジストは、シリコーン系樹脂、PMMA、およびその他の添加剤の正抵抗材料で構成されています。レジストは電子ビームに敏感で、紫外線、X線、電子ビームなどの露出プロセスに非常に敏感です。レジストは、通常、スピンコーティング工程を使用して半導体ウェーハまたは他の基板に堆積されます。フォトレジストマシンには2つの大きな機能があります。まず、ターゲット層との接触を確立し、次に、処理中に基板を保護することです。APPLIED MATERIALS Raider ECDは、2層ツールを通じてこれらの両方の機能を達成することができます。第1層はベースレジスト、第2層はボンド層と呼ばれています。ベースレジストは処理中の保護を提供し、反射率を低減します。それは酸、基盤、溶媒、エッチング剤などのクリーンルーム環境への暴露による汚染や損傷から基材を保護するための強力な機械的および化学的障壁として機能します。ベースレジストは、フォトレジストにさらされた後に形成される結合層の接着剤としても機能します。ボンド層はフォトレジスト層の影響を受けない部分で、パターニング処理が完了した後もターゲット層に接続されたままになります。接触および酸化物マスキングの欠陥を最小限に抑え、優れた分解能と基板への優れた接着性を実現します。Raider ECDアセットは、さまざまな基板およびウェーハ技術に対する優れた抵抗と接着性を提供します。また、優れたエッジ定義を持ち、開発後の清潔性と均一性を向上させました。また、このモデルは非常に高速であり、他のフォトレジストシステムにも優れた速度とスループットを発揮します。AMAT/APPLIED MATERIALS RAIDER ECD装置は、半導体およびMEMSデバイスの下請け業務におけるさまざまなプロセスのパフォーマンスを最適化するように設計されています。銅、アルミニウム、シリックファラデーケージ、窒化ケイ素、スタニック酸化物など、さまざまな材料で使用できます。このシステムは電気めっきプロセスとも互換性があり、充填、平面性、均一性という点で優れた結果をもたらします。結論として、AMAT Raider ECDユニットは、優れた解像度と低い欠陥を提供する高度なフォトレジストソリューションであり、アルカリ開発者に対する耐性が向上しています。このマシンは、優れたエッジ定義、優れた速度とスループット、および幅広い基板への優れた抵抗と接着を可能にする、リソグラフィ加工に最適です。
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