中古 ALLTEQ 1520 #9312394 を販売中

ALLTEQ 1520は、ALLTEQ Materialsが半導体製造プロセスで使用するために設計したフォトレジスト装置です。無水フォトレジストからポジティブトーンフォトレジストまで、さまざまなフォトレジストと協働するように設計されており、半導体デバイスの基板上にレジストの薄膜を堆積・開発するために使用されています。ユニットはコントロールユニットといくつかのハードウェアコンポーネントで構成されており、フォトレジストフィルムを製造するために必要なツールと機能を一緒に提供します。ハードウェア部品には、ライティングチャンバー、開発チャンバー、プラズマエッチングチャンバー、フォトマスクホルダーが含まれます。1520の制御ユニットは機械の高度な制御を提供し、露光時間、開発時間、開発ソリューション、プラズマエッチング時間などのパラメータを正確に調整できます。制御ユニットはまた、プロセスがスムーズかつ効率的に実行されることを保証するために、プロセスパラメータを正確に監視することができます。フォトレジストフィルムを生成するために、フォトマスクは最初にフォトマスクホルダーに配置されます。次に、フォトマスクホルダーをライティングチャンバーに置き、基板上に配置します。その後、紫外線をフォトマスク上に向け、基板を光にさらし、基板上のフォトレジスト膜を生成する光化学反応を開始します。フィルムが作成されると、フォトマスクホルダーは開発室に移動され、割り当てられた開発時間のための開発ソリューションに水没します。最後に、基板上の露出したフォトレジスト領域をエッチングするために、フォトマスクホルダーをプラズマエッチング室に移動します。ALLTEQ 1520は、半導体製造プロセスのための高品質のフォトレジストフィルムを生成する非常に効果的なフォトレジストツールです。制御ユニットは、プロセス制御に優れた柔軟性と精度を提供し、ハードウェアコンポーネントは、ユーザーが迅速かつ効率的にレジストフィルムを生成することができます。1520は、半導体製造プロセスに最適なフォトレジスト資産です。