中古 ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SV-702 #9155953 を販売中

ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702フォトレジストシステムは、精度と精度の高いマイクロエレクトロメカニカルシステムを製造するために設計された高度な製造ツールです。メインのフォトレジストユニット、自動ハンドリングキャビネット、レジストプレベークユニット、スピンおよびスプレー機能、ホットプレート、再循環ポンプユニット、およびウェーハの不動態化を可能にする酸洗浄のためのコンポーネントで構成されています。主なフォトレジストユニットは、ユーザーフレンドリーなインターフェースを備えた自己完結型ユニットです。それは単一および混合されたフォトレジストのためのディスペンサー、ポンプ、攪拌機および貯水池で構成されます。フォトレジストの分配は、各アプリケーションに正確で一貫した流れを提供する高圧マイクロポンプによって達成されます。ユニット内の攪拌機は、分配中にフォトレジスト溶液の正しい粘度を維持するために使用されます。貯水池は、単一または混合フォトレジストを使用することができますが、異なるソリューションコンテナ間のポンプを可能にします。自動化されたハンドリングキャビネットは、ウェーハホルダーを機械に配置するための一連の引き出しと、複数のウェーハを一度にロードできるトレイで構成されています。自動化されたハンドリングツールにより、ウェーハをリザーバからスピンおよびスプレー機能に転送できます。レジストプレベークユニットは、レジストプロセスにさらされたときにウェーハの安定性を保証するアセットです。ユニットは、ボトムヒーターとトップヒーターの両方を備えた予熱オーブンで構成されています。最下のヒーターは上のヒーターが均一な抵抗の厚さを保障する間ウェーハの望ましい温度の配分を作成するのを助けます。スピンとスプレーユニットは、スピンとスプレーチャンバーで構成されたモジュールです。ウェーハ表面にフォトレジストを均一に適用するために使用されます。ユニットは、チャンバーに配置されたウェーハの急速なスピンを介して動作します。エアシリンダーと組み合わせると、スピンとスプレーユニットが機能し、フォトレジストをウェハ表面に均等に分配します。ホットプレートは、最大125°Cまで均等にウェーハを加熱できるプラットフォームを提供します。ベーキング用にウェーハを加熱することができる温度制御された表面であり、均一な抵抗厚さを確保するために攪拌バーでかき混ぜます。再循環ポンプモデルは、フォトレジストを循環させる一連のポンプで構成されています。この装置は、フォトレジストが常に均質で許容可能なパラメータ内に留まることを保証します。酸洗浄の部品はウェーハの不動態化のために使用されます。これは、ウェーハ表面がフォトレジスト溶液の残留物やエッチング処理に使用されるその他のコンポーネントで汚染されないようにするのに役立ちます。ASSI SV-702フォトレジストシステムは、マイクロエレクトロメカニカルユニットの生産における精度と精度のための重要な機能を備えた高度な製造ツールです。自動ハンドリングキャビネットにより、プレベークユニット、スピンおよびスプレー機能、ホットプレート、再循環ポンプ機、および酸洗浄コンポーネントに抵抗し、効率的で信頼性の高い生産プロセスを達成する能力を製造業者に提供します。