中古 KINETICS MegaFlow II #9160832 を販売中

KINETICS MegaFlow IIは、リソグラフィ、エッチング、メタライゼーション、アニーリング、電気めっき、拡散、洗浄、組立などの温度制御プロセスに最適な最先端の半自動ウェハ処理装置です。直感的なインターフェイスと強力なプロセッサで構築されたシステムは、最小限の人間の介入で合理化された効率的なワークフローを提供するように設計されています。このユニットは、ウェーハハンドリングとカセット間の操作を容易にし、サイクル時間を短縮してスループットを向上させる合理化されたプラットフォームで設計されています。7インチの6インチまたは8インチの8インチのウェーハトレイを最大4台までサポートし、1回の実行で最大80台のウェーハを収容できます。このマシンはまた、フィールド更新可能な標準構成で高い柔軟性を提供します。MegaFlow IIには、高度なセンサーと、温度の均一性とプロセス制御のためのクローズドループのフィードバックプラットフォームが装備されています。モジュラー設計により、ウェーハごとに高度なプロセスカスタマイズが可能になり、精度、再現性、堅牢性も向上します。イントラプロセスチャンバー通信を介して、ツールは自動的に検出、保存、および各チャンバのプロセス制御プロファイルを調整し、比類のない均一性を提供します。このアセットは、ウェハレベルの汚染を最小限に抑えるためにもカスタマイズされています。クリーンルーム内部と不揮発性メモリのおかげで、KINETICS MegaFlow IIは超精度リソグラフィに最適です。統合ソフトウェアパッケージも含まれており、モデル制御、データ取得、プロセス最適化、および時間ベースのレシピ管理を提供します。MegaFlow IIを他の処理システムと区別するのは、環境に優しい設計です。低消費電力の認証を取得して構築されたこの機器は、主要パラメータを制御することで熱暴走の潜在的なリスクを排除し、調整可能な警告/警報ユニットを介してすべてのシステムパラメータを監視します。また、幅広い液体やガスに対応できるように設計されており、最適で再現性が高く安全な性能を実現しています。結論として、KINETICS MegaFlow IIは、今日最も厳しい温度制御プロセスに最適なソリューションです。革新的な設計、迅速なサイクルレート、カスタマイズ可能な構成により、このツールは信頼性、安全性、最適な結果を提供するために構築されており、生産性の向上と資産パフォーマンスの向上につながります。